WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2009057487) PROCESS FOR PRODUCING RHODIUM-CONTAINING ZSM-5
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/057487    International Application No.:    PCT/JP2008/069087
Publication Date: 07.05.2009 International Filing Date: 22.10.2008
IPC:
C01B 39/40 (2006.01), B01D 53/94 (2006.01), B01J 29/44 (2006.01)
Applicants: Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. [JP/JP]; 11-1, Kameido 9-chome, Koto-ku, Tokyo 1368515 (JP) (For All Designated States Except US).
KOSHIMIZU, hitoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KOSHIMIZU, hitoshi; (JP)
Priority Data:
2007-280391 29.10.2007 JP
Title (EN) PROCESS FOR PRODUCING RHODIUM-CONTAINING ZSM-5
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE ZMS-5 CONTENANT DU RHODIUM
(JA) ロジウム含有ZSM-5の製造方法
Abstract: front page image
(EN)This invention provides a process for producing a rhodium-supported ZSM-5 which comprises rhodium supported in a cluster form on ZSM-5 even when the amount of rhodium supported exceeds 1% by weight. The process for producing a rhodium-containing ZSM-5 is characterized in that an aqueous mixture containing water, a silicon source, an aluminum source, a rhodium source, a mineralizing agent, a salting-out effect agent, a hydrogen ion concentration regulating agent, and a template is subjected to hydrothermal treatment. Preferably, the aqueous mixture is produced by adding, to an aqueous solution (liquid C) containing a salting-out effect agent, an aqueous solution (liquid A) containing a hydrogen ion concentration regulating agent, a template, and an aluminum source, and an aqueous solution (liquid B) containing a silicon and a mineralizing agent to give a mixture, and adding a rhodium source to this mixture.
(FR)Cette invention concerne un procédé de production de ZMS-5 à rhodium supporté qui comprend du rhodium supporté sous une forme d'agrégat sur du ZSM-5 même lorsque la quantité de rhodium supportée est supérieure à 1 % en poids. Le procédé de production d'un ZMS-5 contenant du rhodium se caractérise en ce qu'un mélange aqueux contenant de l'eau, une source de silicium, une source d'aluminium, une source de rhodium, un agent minéralisant, un agent de dessalage, un agent de régulation de la concentration d'ions hydrogène, et une matrice est soumis à un traitement hydrothermique. De préférence, le mélange aqueux est produit par addition à une solution aqueuse (liquide C) contenant un agent de dessalage d'une solution aqueuse (liquide A) contenant un agent de régulation de la concentration d'ions hydrogène, une matrice et une source d'aluminium et d'une solution aqueuse (liquide B) contenant du silicium et un agent minéralisant pour obtenir un mélange, puis addition d'une source de rhodium à ce mélange.
(JA) 担持量が1重量%を超える場合であっても、クラスター状にロジウムがZSM-5に担持されているロジウム担持ZSM-5を製造する方法を提供する。  本発明によれば、水、珪素源、アルミニウム源、ロジウム源、鉱化剤、塩析効果剤、水素イオン濃度調節剤及び型剤を含有する水性混合物を水熱処理することを特徴とするロジウム含有ZSM-5の製造方法が提供される。本発明においては、さらに、塩析効果剤を含有する水溶液(C液)に、水素イオン濃度調節剤、型剤及びアルミニウム源を含有する水溶液(A液)と、珪素及び鉱化剤を含有する水溶液(B液)を加えて混合物を得た後、この混合物にロジウム源を加えて、水性混合物を得ることが好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)