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1. (WO2009057408) PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND PROCESS FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/057408    International Application No.:    PCT/JP2008/067815
Publication Date: 07.05.2009 International Filing Date: 01.10.2008
IPC:
G03F 7/028 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/09 (2006.01)
Applicants: Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 1, Sakura-machi, Hino-shi, Tokyo 1918511 (JP) (For All Designated States Except US).
OKUYAMA, Masato [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OKUYAMA, Masato; (JP)
Priority Data:
2007-283259 31.10.2007 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND PROCESS FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) MATÉRIAU PHOTOSENSIBLE POUR PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE TELLE PLAQUE
(JA) 感光性平版印刷版材料及び平版印刷版の作製方法
Abstract: front page image
(EN)A photosensitive material for lithographic printing plates which has high sensitivity and has excellent unsusceptibility to fouling in preheating even after having been stored for long after production. Also provided is a process for producing a lithographic printing plate from the photosensitive material. The photosensitive material for lithographic printing plates comprises a base and, formed thereon, a photosensitive layer comprising a spectral sensitizer, a polymerization initiator, a co-initiator, a polymerizable monomer, and a polymeric binder and further has an oxygen-barrier layer containing a polyvinyl alcohol and formed on the photosensitive layer. It is characterized in that the photosensitive layer contains a hexaarylbisimidazole compound as the polymerization initiator and further contains a compound represented by the following general formula (1) as the co-initiator, and that the ratio of the content of the polymerizable monomer to that of the polymeric binder is from 1.4 to 1.9.
(FR)La présente invention concerne un matériau photosensible pour des plaques d'impression lithographique qui présente une sensibilité élevée et présente une excellente insensibilité à l'encrassement lors d'un préchauffage, même après avoir été stocké longtemps après la fabrication. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'une plaque d'impression lithographique à partir du matériau photosensible. Le matériau photosensible pour plaques d'impression lithographique comprend une base et, formée sur celle-ci, une couche photosensible comprenant un sensibilisateur spectral, un initiateur de polymérisation, un co-initiateur, un monomère polymérisable et un liant polymère. Le matériau comporte en outre une couche barrière à l'oxygène contenant un alcool polyvinylique et formée sur la couche photosensible. Le matériau est caractérisé en ce que la couche photosensible contient un composé hexaarylbisimidazole en tant qu'initiateur de polymérisation et contient en outre un composé représenté par la formule générale suivante (1) en tant que co-initiateur, et en ce que le rapport du contenu du monomère polymérisable sur celui du liant polymère va de 1,4 à 1,9.
(JA) 本発明は、高感度で、かつ製造後長期間にわたり保存した感光性平版印刷版材料でもプレヒートでの汚れ耐性に優れた感光性平版印刷版材料及びそれを用いた平版印刷版の作製方法を提供する。この感光性平版印刷版材料は、支持体上に、分光増感剤、重合開始剤、共開始剤、重合性モノマー、及び高分子結合材を含有する感光層を有し、更にその上にポリビニルアルコールを含有する酸素遮断層を有する感光性平版印刷版材料であって、該感光層が、重合開始剤としてヘキサアリールビスイミダゾール化合物を含有し、共開始剤として下記一般式(1)で表される化合物を含有し、かつ、重合性モノマーの高分子結合材に対する含有比率が1.4~1.9であることを特徴とする。   【化1】
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)