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Pub. No.:    WO/2009/057265    International Application No.:    PCT/JP2008/003023
Publication Date: 07.05.2009 International Filing Date: 24.10.2008
G11B 7/26 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01)
Applicants: SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION [JP/JP]; 5-1, Kasama 2-chome, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2478610 (JP) (For All Designated States Except US).
NARITA, Haruka [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NARITA, Haruka; (JP)
Agent: KIUCHI, Mitsuharu; 5th Floor, Toranomon-Yoshiara Bldg. 6-13, Nishi-Shinbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2007-281973 30.10.2007 JP
(JA) 転写装置及び転写方法
Abstract: front page image
(EN)A transfer device and method enabling uniform resin coating and formation of multilayer recording surface at low cost and at high efficiency with a simple structure. The transfer device is used for transferring the projections/recesses of a stamper (S) onto a resin (R) on a base (P). The device comprises first and second coaters (22A, 22B) for coating the base (P) with resin (R), first and second press units (33A, 33B) for pressing the stamper (S) against the resin (R), curing the resin (R) by application of an ultraviolet pulse, and first and second sputtering units (12A, 12B) for forming a reflective film on the resin (R) to which the projections/recesses are transferred. The first coater (22A) has an application unit (25) for spot application of ultraviolet radiation, and the second coater (22B) has an application unit (26) for overall application of ultraviolet radiation.
(FR)La présente invention concerne un dispositif et un procédé de transfert permettant un revêtement de résine uniforme et la formation d'une surface d'enregistrement multicouche à un prix faible et à un rendement élevé avec une structure simple. Le dispositif de transfert est utilisé pour transférer les projections/cavités d'une matrice (S) sur une résine (R) sur une base (P). Le dispositif comporte des premier et second dispositifs de revêtement (22A, 22B) pour revêtir la base (P) d'une résine (R), des première et seconde unités de presse (33A, 33B) pour presser la matrice (S) contre la résine (R), durcir la résine (R) par application d'une impulsion ultraviolette, et des première et seconde unités de pulvérisation cathodique (12A, 12B) pour former un film réfléchissant sur la résine (R) à laquelle les projections/cavités sont transférées. Le premier dispositif de revêtement (22A) comporte une unité d'application (25) pour une application ponctuelle d'un rayonnement ultraviolet, et le second dispositif de revêtement (22B) comporte une unité d'application (26) pour une application globale d'un rayonnement ultraviolet.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)