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1. (WO2009057058) ALKALINE EARTH METAL CONTAINING PRECURSOR SOLUTIONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/057058    International Application No.:    PCT/IB2008/054498
Publication Date: 07.05.2009 International Filing Date: 29.10.2008
IPC:
C23C 16/40 (2006.01)
Applicants: L'AIR LIQUIDE-SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE [FR/FR]; 75 Quai d'Orsay, F-75007 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
OGAWA, Satoko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
DUSSARRAT, Christian [FR/US]; (US) (For US Only)
Inventors: OGAWA, Satoko; (JP).
DUSSARRAT, Christian; (US)
Priority Data:
60/983,441 29.10.2007 US
12/260,256 29.10.2008 US
Title (EN) ALKALINE EARTH METAL CONTAINING PRECURSOR SOLUTIONS
(FR) SOLUTIONS DE PRÉCURSEUR CONTENANT UN MÉTAL ALCALINO-TERREUX
Abstract: front page image
(EN)Methods and compositions for depositing a film on one or more substrates include providing a reactor with at least one substrate disposed in the reactor. A liquid precursor solution is provided, where the liquid precursor solution comprises a solid precursor and an aromatic solvent. The solid precursor has the general formula: M(RmCp)2Ln; wherein M is an alkaline earth metal, and each R is independently either H or a C1-C4 linear, branched, or cyclic alkyl group. L is a Lewis base; m is 2, 3, 4, or 5; and n is 0, 1, or 2. The aromatic solvent comprises at least one aromatic ring, and has a greater boiling point than the melting point of the solid precursor. The liquid precursor solution is vaporized to form a precursor solution vapor, and the vapor is introduced into the reactor. At least part of the vapor is deposited onto the substrate to form an alkaline earth metal containing film.
(FR)Des procédés et des compositions pour déposer un film sur un ou plusieurs substrats comprennent l'alimentation d'un réacteur en au moins un substrat disposé dans le réacteur. Une solution de précurseur liquide est fournie, celle-ci comprenant un précurseur solide et un solvant aromatique. Le précurseur solide répond à la formule générale: M(RmCp)2Ln; dans laquelle M est un métal alcalino-terreux, et chaque R est indépendamment soit H, soit un groupe alkyle linéaire, ramifié ou cyclique en C1 à C4. L est une base de Lewis; m vaut 2, 3, 4 ou 5; et n vaut 0, 1 ou 2. Le solvant aromatique comprend au moins un cycle aromatique, et a un point d'ébullition plus élevé que le point de fusion du précurseur solide. La solution de précurseur liquide est vaporisée pour former une vapeur de solution de précurseur, et la vapeur est introduite dans le réacteur. Au moins une partie de la vapeur est déposée sur le substrat pour former un film contenant un métal alcalino-terreux.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)