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1. (WO2009052019) TECHNIQUES FOR COMMENSURATE CUSP-FIELD FOR EFFECTIVE ION BEAM NEUTRALIZATION
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Pub. No.: WO/2009/052019 International Application No.: PCT/US2008/079449
Publication Date: 23.04.2009 International Filing Date: 10.10.2008
IPC:
H01L 21/265 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02
Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
04
the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer, carrier concentration layer
18
the devices having semiconductor bodies comprising elements of the fourth group of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
26
Bombardment with wave or particle radiation
263
with high-energy radiation
265
producing ion implantation
Applicants:
KOO, Bon-Woong [US/US]; US (UsOnly)
SINCLAIR, Frank [US/US]; US (UsOnly)
VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, MA 01930, US (AllExceptUS)
Inventors:
KOO, Bon-Woong; US
SINCLAIR, Frank; US
Agent:
CHOI, Changhoon; Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 35 Dory Road Gloucester, MA 01930, US
Priority Data:
11/872,57615.10.2007US
Title (EN) TECHNIQUES FOR COMMENSURATE CUSP-FIELD FOR EFFECTIVE ION BEAM NEUTRALIZATION
(FR) TECHNIQUES DE CHAMP DE FESTONS ÉQUIVALENTS POUR NEUTRALISATION EFFICACE DES FAISCEAUX IONIQUES
Abstract:
(EN) Techniques for commensurate cusp-field for effective ion beam neutralization are disclosed. In one particular exemplary embodiment, the techniques may be realized as a charged particle injection system comprising a beamguide configured to transport an ion beam through a dipole field. The charged particle injection system may also comprise a first array of magnets and a second array of magnets configured to generate a multi-cusp magnetic field, positioned along at least a portion of an ion beam path, the first array of magnets being on a first side of the ion beam path and the second array of magnets being on a second side of the ion beam path. The charged particle injection system may further comprise a charged particle source having one or more apertures configured to inject charged particles into the ion beam path. The charged particle injection system may furthermore align the one or more apertures with at least one of the first array of magnets and the second array of magnets to align the injected charged particles from the charged particle source with one or more magnetic regions for an effective charged particle diffusion into the ion beam path.
(FR) L'invention concerne des techniques de champ de festons équivalents pour neutralisation efficace des faisceaux ioniques. Dans un exemple de mode de réalisation particulier, les techniques peuvent être réalisées sous la forme d'un système d'injection de particules chargées comprenant un guide de faisceau configuré pour acheminer un faisceaux ionique à travers un champ dipolaire. Le système d'injection de particules chargées peut également comprendre une première rangée d'aimants et une deuxième rangée d'aimants configurées pour générer un champ magnétique multifestons positionné le long d'au moins une partie de la trajectoire d'un faisceau ionique, la première rangée d'aimants étant sur un premier côté de la trajectoire du faisceau ionique et la deuxième rangée d'aimants sur un deuxième côté de la trajectoire du faisceau ionique. Le système d'injection de particules chargées peut également comprendre une source de particules chargées comportant une ou plusieurs ouvertures configurées pour injecter des particules chargées dans la trajectoire du faisceau ioniques. Le système d'injection de particules chargées peut également aligner la ou les ouvertures avec la première rangée d'aimants et/ou la deuxième rangée d'aimants pour aligner les particules chargées injectées en provenance de la source de particules chargées avec une ou plusieurs régions magnétiques afin d'assurer une diffusion efficace des particules chargées dans la trajectoire de faisceau ionique.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)