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1. (WO2008102929) CONTINUOUS LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD USING ULTRAVIOLET NANOIMPRINTING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/102929    International Application No.:    PCT/KR2007/001942
Publication Date: 28.08.2008 International Filing Date: 20.04.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUNDATION, YONSEI UNIVERSITY [KR/KR]; Yonsei University, 134, Sinchon-dong, Seodaemun-gu, Seoul 120-749 (KR) (For All Designated States Except US).
KANG, Shinill [KR/KR]; (KR) (For US Only).
AHN, Suho [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: KANG, Shinill; (KR).
AHN, Suho; (KR)
Agent: KIM, Seon-Min; AKROS Patent & Trademark Attorneys, #1004, Ilshin Bldg., 541, Dohwa-dong, Mapo-gu, Seoul 121-701 (KR)
Priority Data:
10-2007-0017733 22.02.2007 KR
Title (EN) CONTINUOUS LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD USING ULTRAVIOLET NANOIMPRINTING
(FR) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE EN CONTINU ET PROCÉDÉ CONSISTANT À UTILISER LA NANO-IMPRESSION ASSISTÉE PAR ULTRAVIOLET
Abstract: front page image
(EN)A continuous lithography apparatus performs a lithography process while performing a continuous transport. The apparatus can include an ultraviolet nanoimprinting part for performing an ultraviolet nanoimprinting on a photosensitive layer, formed on a conductive layer, using a patterned roll stamper, to form a pattern on the photosensitive layer; a first removing part for removing a residual layer of the photosensitive layer; a second removing part for removing an exposed portion of the conductive layer; and a third removing part for removing a remaining portion of the photosensitive layer, wherein the ultraviolet nanoimprinting part and the first to third removing parts are arranged along a route of the continuous transport. The apparatus can include an ultraviolet nanoimprinting part for performing an ultraviolet nanoimprinting on a photosensitive layer, formed on a conductive layer, using a patterned roll stamper, to form a pattern on the photosensitive layer; a first removing part for removing a residual layer of the photosensitive layer; a metal layer forming part for forming a metal layer on an exposed portion of the conductive layer; a third removing part for removing a remaining portion of the photosensitive layer; and a fourth removing part for removing an exposed portion of the conductive layer, wherein the ultraviolet nanoimprinting part, the first removing part, the metal layer forming part, the third removing part and the fourth removing part are arranged along a route of the continuous transport. A continuous lithography method performs a lithography process while performing a continuous transport.
(FR)Cette invention concerne un appareil de lithographie en continu conçu pour exécuter simultanément un processus de lithographie et un acheminement en continu. L'appareil peut comprendre un élément de nano-impression assistée par ultraviolet conçu pour exécuter une nano-impression assistée par ultraviolet sur une couche photosensible formée sur une couche conductrice au moyen d'un poinçon rotatif à motif afin de former un motif sur la couche photosensible; un premier élément d'élimination conçu pour éliminer une couche résiduelle de la couche photosensible; un second élément d'élimination conçu pour éliminer une partie exposée de la couche conductrice; et un troisième élément d'élimination conçu pour éliminer le reste de la couche photosensible, l'élément de nano-impression assistée par ultraviolet et les premier, second et troisième éléments d'élimination sont disposés le long d'un trajet d'acheminement en continu. L'appareil peut comprendre un élément de nano-impression assistée par ultraviolet conçu pour exécuter une nano-impression assistée par ultraviolet sur une couche photosensible formée sur une couche conductrice au moyen d'un poinçon rotatif à motif afin de former un motif sur la couche photosensible; un premier élément d'élimination conçu pour éliminer une couche résiduelle de la couche photosensible, un élément de formation de couche métallique conçu pour former une couche métallique sur une partie exposée de la couche conductrice; un troisième élément d'élimination conçu pour éliminer le reste de la couche photosensible; et un quatrième élément d'élimination conçu pour éliminer une partie exposée de la couche conductrice; l'élément de nano-impression assistée par ultraviolet, le premier élément d'élimination, l'élément de formation de couche métallique, le troisième élément d'élimination et le quatrième élément d'élimination étant disposés le long du trajet d'acheminement en continu. Cette invention concerne un procédé de lithographie en continu qui consiste à exécuter simultanément une lithographie et un acheminement en continu.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Korean (KO)