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1. (WO2008102431) PROCESS FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE RESIN, PHOTOSENSITIVE RESIN OBTAINED BY THE PROCESS, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/102431    International Application No.:    PCT/JP2007/053030
Publication Date: 28.08.2008 International Filing Date: 20.02.2007
IPC:
C08G 59/14 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01)
Applicants: SHOWA HIGHPOLYMER CO., LTD. [JP/JP]; 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050012 (JP) (For All Designated States Except US).
UEI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOBAYASHI, Masayuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: UEI, Hiroshi; (JP).
KOBAYASHI, Masayuki; (JP)
Agent: SOGA, Michiteru; S. Soga & Co. 8th Floor, Kokusai Building 1-1, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Priority Data:
Title (EN) PROCESS FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE RESIN, PHOTOSENSITIVE RESIN OBTAINED BY THE PROCESS, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) PROCESSUS DE PRODUCTION D'UNE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, RÉSINE PHOTOSENSIBLE OBTENUE SELON LE PROCESSUS, ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂の製造方法、その製造方法から得られる感光性樹脂および感光性樹脂組成物
Abstract: front page image
(EN)A process for producing a photosensitive resin which is capable of exposure to ultraviolet and development with a dilute aqueous alkali solution, has high sensitivity, is satisfactory in thermal stability and development control tolerance, and is suitable for use as a solder resist ink giving a coating film having excellent performances; a photoresist resin obtained by the production process; and a composition containing the photosensitive resin. The process for photosensitive resin production comprises reacting a novolak type polyfunctional epoxy resin with an unsaturated monobasic acid and a saturated monobasic acid having a primary alcoholic hydroxy group in the presence of an organic compound of trivalent phosphorus and a specific metal salt catalyst to obtain a resin (reaction product I), reacting the resin with a polybasic acid anhydride, and reacting the resultant resin (reaction product II) with a compound having a radical-polymerizable unsaturated group and an epoxy group and a water-soluble monoepoxy compound.
(FR)L'invention concerne un processus de production d'une résine photosensible capable d'exposition aux ultraviolets et de développement avec une solution alcaline aqueuse diluée, présentant une sensibilité élevée, satisfaisant en matière de stabilité thermique et de tolérance de contrôle du développement, et adapté pour une utilisation en tant qu'encre de réserve de soudure fournissant un film de revêtement doté d'excellentes performances. L'invention concerne également une résine photosensible obtenue selon le processus de production ; ainsi qu'une composition contenant la résine photosensible. Le processus pour la production de résine photosensible comprend la mise en réaction d'une résine époxy polyfonctionnelle de type novolak avec un acide monobasique insaturé et un acide monobasique saturé ayant un groupe hydroxy alcoolisé primaire en présence d'un composé organique de phosphore trivalent et d'un catalyseur de sel métallique spécifique pour obtenir une résine (produit de réaction I), la mise en réaction de la résine avec un anhydride acide polybasique ; et la mise en réaction de la résine obtenue (produit de réaction II) avec un composé ayant un groupe insaturé polymérisable par radical et un groupe époxy et un composé mono-époxy soluble dans l'eau.
(JA) 紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像可能であって、高感度であり、しかも熱安定性及び現像管理幅が良好で、塗膜が優れた性能を示すソルダーレジストインクとして好適な感光性樹脂の製造方法、その製造方法より得られる感光性樹脂、その感光性樹脂を含む組成物を提供することを技術的課題とする。  上記課題を解決するために、3価の有機リン化合物および特定の金属塩触媒の存在下、ノボラック型多官能エポキシ樹脂に不飽和一塩基酸及び1級のアルコール性水酸基を有する飽和一塩基酸を反応させ得られた樹脂(反応物I)に、多塩基酸無水物を反応させ(反応物II)、更にラジカル重合性不飽和基とエポキシ基を有する化合物及び水溶性モノエポキシ化合物を反応させる感光性樹脂の製造方法を提供する。さらに、前記製造方法で得られた感光性樹脂およびこれを含む感光性樹脂組成物を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)