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1. (WO2008101704) PLASMA-DEPOSITED ELECTRICALLY INSULATING, DIFFUSION-RESISTANT AND ELASTIC LAYER SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/101704    International Application No.:    PCT/EP2008/001388
Publication Date: 28.08.2008 International Filing Date: 22.02.2008
IPC:
C23C 16/26 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), H01L 51/52 (2006.01), A61N 1/375 (2006.01)
Applicants: TECHNISCHE UNIVERSITÄT KAISERSLAUTERN [DE/DE]; Gottlieb-Daimler-Strasse, 67663 Kaiserslautern (DE) (For All Designated States Except US).
BUSCH, Heinz, Werner [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GRABOWY, Udo, Heinrich [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KLEINEN, Lisa [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: BUSCH, Heinz, Werner; (DE).
GRABOWY, Udo, Heinrich; (DE).
KLEINEN, Lisa; (DE)
Agent: SAWODNY, Michael; Dreiköniggasse 10, 89073 Ulm (DE)
Priority Data:
10 2007 008 861.4 23.02.2007 DE
Title (DE) PLASMADEPONIERTES ELEKTRISCH ISOLIERENDES, DIFFUSIONSDICHTES UND ELASTISCHES SCHICHTSYSTEM
(EN) PLASMA-DEPOSITED ELECTRICALLY INSULATING, DIFFUSION-RESISTANT AND ELASTIC LAYER SYSTEM
(FR) SYSTÈME STRATIFIÉ ÉLASTIQUE, ÉTANCHE À LA DIFFUSION, ÉLECTRIQUEMENT ISOLANT ET DÉPOSÉ PAR PLASMA
Abstract: front page image
(DE)Vielfachschichtsystem auf einem Substrat, wobei das Vielfachschichtsystem auf das Substrat mit Hilfe von Plasmadeposition aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Vielfachschichtsystem derart aufgebaut ist, dass es eine weitgehende Diffusionsdichtheit gegenüber Ionen in wässriger Lösung aufweist, wobei der durch die Diffusion der Ionen bei Anliegen eines elektrischen Feldgradienten von mehr als 104V/m, bevorzugt mehr als 105V/m, ganz bevorzugt von mehr als 107V/m erzeugte Strom IIon < 6,5x10-8 A/cm2, vorzugsweise IIon < 6,5x10 -10 A/cm2, insbesondere IIon < 1x10-12 A/cm2 ist.
(EN)A multilayer system on a substrate, the multilayer system being applied to the substrate by plasma deposition, characterized in that the multilayer system is configured such that it has substantial diffusion resistance to ions in an aqueous solution, wherein the current produced by the diffusion of the ions with the connection of an electric field gradient of more than 104V/m, preferably more than 105V/m, most preferred more than 107V/m is IIon < 6,5x10-8 A/cm2, preferably IIon < 6,5x10 -10 A/cm2, particularly IIon < 1x10-12 A/cm2.
(FR)L'invention concerne un système multicouche appliqué sur un substrat, lequel système multicouche est appliqué sur le substrat par dépôt par plasma. L'invention se caractérise en ce que le système multicouche est conçu de sorte à présenter une grande étanchéité à la diffusion vis-à-vis d'ions en solution aqueuse, le courant IIon, engendré par la diffusion des ions en présence d'un gradient de champ électrique supérieur à 104V/m, de préférence supérieur à 105V/m, idéalement supérieur à 107V/m, étant < 6,5x10-8 A/cm2, de préférence < 6,5x10 -10 A/cm2, en particulier < 1x10-12 A/cm2.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)