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1. (WO2008101254) POWER SOURCE ARRANGEMENT FOR MULTIPLE-TARGET SPUTTERING SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/101254    International Application No.:    PCT/US2008/054320
Publication Date: 21.08.2008 International Filing Date: 19.02.2008
IPC:
H01J 37/34 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: INTEVAC, INC. [US/US]; 3560 Bassett Street, Santa Clara, CA 95054 (US) (For All Designated States Except US).
BLUCK, Terry [US/US]; (US) (For US Only).
WARD, Patrick [US/US]; (US) (For US Only).
BARNES, Michael [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BLUCK, Terry; (US).
WARD, Patrick; (US).
BARNES, Michael; (US)
Agent: BACH, Joseph; Nixon Peabody LLP, 401 9th Street, N.W., Suite 900, Washington, DC 20004 (US)
Priority Data:
60/890,243 16.02.2007 US
Title (EN) POWER SOURCE ARRANGEMENT FOR MULTIPLE-TARGET SPUTTERING SYSTEM
(FR) MÉCANISME DE SOURCE D'ALIMENTATION EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE POUR SYSTÈME DE PULVÉRISATION CATHODIQUE À CIBLES MULTIPLES
Abstract: front page image
(EN)An arrangement for concurrently powering a plurality of sputtering sources. A power supply is coupled to a charge accumulator. The charge accumulator is coupled to several sputtering sources via switching devices. The duty cycle of each switching device is used to individually control the power delivered to each sputtering source. In another arrangement, a power source is coupled to an impedance match circuit. The impedance match circuit is coupled to several sputtering sources via several balance elements. Each balance element is operated to individually control the power delivered to the sputtering source.
(FR)L'invention porte sur un mécanisme qui permet d'alimenter simultanément en énergie électrique une pluralité de sources de pulvérisation cathodique. Selon l'invention, un bloc d'alimentation en énergie électrique est couplé à un accumulateur de charge. L'accumulateur de charge est couplé à plusieurs sources de pulvérisation cathodique par le biais de dispositifs de commutation, et l'on utilise le cycle de service de chaque dispositif de commutation pour réguler individuellement l'énergie distribuée à chaque source de pulvérisation cathodique. Dans un autre mode de réalisation, une source d'alimentation en énergie est couplée à un circuit d'adaptation d'impédance. Le circuit d'adaptation d'impédance est couplé à plusieurs sources de pulvérisation cathodique par le biais de plusieurs éléments d'équilibrage, et l'on utilise chaque élément d'équilibrage pour réguler individuellement l'énergie distribuée à la source de pulvérisation cathodique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)