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1. (WO2008100963) FABRICATION OF COMPOSITE MATERIALS USING ATOMIC LAYER DEPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/100963    International Application No.:    PCT/US2008/053759
Publication Date: 21.08.2008 International Filing Date: 12.02.2008
IPC:
C23C 16/00 (2006.01)
Applicants: LOTUS APPLIED TECHNOLOGY, LLC [US/US]; 1050 NW Compton Drive, Beaverton, OR 97006-1997 (US) (For All Designated States Except US).
DICKEY, Eric, R. [US/US]; (US) (For US Only).
BARROW, William, A. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: DICKEY, Eric, R.; (US).
BARROW, William, A.; (US)
Agent: WOLLER, Jeff, A,; Stoel Rives LLP, 900 SW Fifth Avenue, Suite 2600, Portland, Oregon 97204 (US)
Priority Data:
60/889,492 12.02.2007 US
Title (EN) FABRICATION OF COMPOSITE MATERIALS USING ATOMIC LAYER DEPOSITION
(FR) FABRICATION DE MATÉRIAUX COMPOSITES EN UTILISANT UN DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES
Abstract: front page image
(EN)Methods of constructing composite films including particles (102) embedded in a filler matrix (104) involve preparing a collection of stacked particles (100), then depositing a matrix material (104) throughout the particle collection (100) using an atomic layer deposition (ALD) method so as to substantially completely fill the spaces (106, 110) between the particles (102) with the matrix material (104). During matrix deposition, a vapor phase etch cycle may be periodically employed to avoid clogging of small pores (214) in the particle collection. New composite materials formed by such methods are also disclosed.
(FR)L'invention porte sur des procédés de fabrication de films composites comprenant des particules (102) noyées dans une matrice de remplissage (104). Le procédé comprend les étapes consistant à préparer un recueil de particules empilées (100), déposer ensuite un matériau de matrice (104) d'un bout à l'autre du recueil de particules (100) en utilisant un procédé de dépôt de couches atomiques (ALD), de manière à remplir sensiblement complètement les espaces (106, 110) situés entre les particules (102) à l'aide du matériau de matrice (104). Pendant un dépôt de matrice, un cycle de gravure en phase vapeur peut être utilisé périodiquement pour éviter le bouchage des petits pores (214) dans le recueil de particules. L'invention porte également sur de nouveaux matériaux composites formés par de tels procédés.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)