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1. (WO2008099864) METHOD FOR PRODUCTION OF BLOCK COPOLYMER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/099864    International Application No.:    PCT/JP2008/052395
Publication Date: 21.08.2008 International Filing Date: 14.02.2008
IPC:
C08G 61/12 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (For All Designated States Except US).
YOKOZAWA, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HIGASHIMURA, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TEMMA, Tomohisa [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YOKOZAWA, Tsutomu; (JP).
HIGASHIMURA, Hideyuki; (JP).
TEMMA, Tomohisa; (JP)
Agent: ASAMURA, Kiyoshi; Room 331, New Ohtemachi Bldg., 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Priority Data:
2007-033105 14.02.2007 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCTION OF BLOCK COPOLYMER
(FR) PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION D'UN COPOLYMÈRE EN BLOCS
(JA) ブロック共重合体の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a block copolymer which comprises two or more blocks composed of aromatic units having different basic structures from each other and has a high molecular weight, a narrow chain length distribution and a narrow molecular weight distribution. Also disclosed is a block copolymer produced by the method. The method for producing a block copolymer comprises the step of sequentially reacting two or more aromatic compounds which are selected from aromatic compounds represented by a specific general formula and are different in the group Ar, in the presence of a nickel complex containing a phosphine compound represented by a specific general formula or a palladium complex containing a phosphine compound represented by a specific general formula to thereby form blocks comprising the aromatic compounds sequentially, wherein the two or more aromatic compounds are reacted in descending order of parameter of aromatic ring charge.
(FR)L'invention concerne un procédé servant à produire un copolymère en blocs lequel comprend deux blocs ou plus composés d'unités aromatiques ayant des structures de base différentes les unes des autres et lequel a un poids moléculaire élevé, une distribution étroite de la longueur de chaîne et une distribution étroite du poids moléculaire. L'invention concerne également un copolymère en blocs produit par le procédé. Le procédé servant à produire un copolymère en blocs comprend l'étape consistant à faire réagir séquentiellement deux composés aromatiques ou plus, lesquels sont sélectionnés parmi des composés aromatiques représentés par une formule générale spécifique et lesquels sont différents en termes de groupe Ar, en présence d'un complexe du nickel contenant un composé phosphine représenté par une formule générale spécifique ou d'un complexe du palladium contenant un composé phosphine représenté par une formule générale spécifique, pour former de cette manière des blocs comprenant les composés aromatiques séquentiellement, lesdits deux ou plus étant composés aromatiques mis en réaction dans l'ordre décroissant du paramètre de charge du cycle aromatique.
(JA) 本発明の目的は、基本構造の異なる芳香族単位からなるブロックを二種類以上含み、高分子量で狭い連鎖長分布および分子量分布を持つブロック共重合体を与える製造方法、及びこの製造方法によって製造されるブロック共重合体を提供することにある。  特定の一般式で表される芳香族化合物から選ばれ、Arがそれぞれ異なる芳香族化合物二種以上を、特定の一般式で表されるホスフィン化合物を含むニッケル錯体または特定の一般式で表されるホスフィン化合物を含むパラジウム錯体の存在下で、順次反応させてそれぞれの芳香族化合物からなるブロックを順次形成するブロック共重合体の製造方法であって、上記二種以上の芳香族化合物を、それらの、芳香環電荷パラメーターの値の大きいものから小さいものへの順に反応させるブロック共重合体の製造方法。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)