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1. (WO2008099709) POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/099709    International Application No.:    PCT/JP2008/051799
Publication Date: 21.08.2008 International Filing Date: 05.02.2008
IPC:
G03F 7/023 (2006.01), C08F 290/06 (2006.01), C08F 299/02 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01), C08G 73/22 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/022 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome Chuo-ku, Tokyo 103-8666 (JP) (For All Designated States Except US).
FUJITA, Yoji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ARIMOTO, Shinji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IKE, Rinsei [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: FUJITA, Yoji; (JP).
ARIMOTO, Shinji; (JP).
IKE, Rinsei; (JP)
Priority Data:
2007-031710 13.02.2007 JP
2007-061542 12.03.2007 JP
Title (EN) POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE POSITIF
(JA) ポジ型感光性樹脂組成物
Abstract: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a positive-type photosensitive resin composition having good mechanical properties and excellent storage stability by using a novolac resin. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] Disclosed is a positive-type photosensitive resin composition comprising (a) a novolac resin, (b) a polymer mainly composed of a structure represented by the general formula (1) and/or (2), (c) a quinonediazide compound, (d) a compound having an alkoxymethyl group, and (e) a solvent. (1) (2) wherein R1 and R2 may be the same as or different from each other and independently represent an organic group having 2 to more carbon atoms and a valency of 2 to 8; R3 and R4 may be the same as or different from each other and independently represent a hydrogen atom or a univalent organic group having 1 to 20 carbon atoms; -NH-R5 in the general formula (1) and -CO-R6 in the general formula (2) independently represent a terminal group of a polymer; R5 and R6 independently represent a univalent organic group having 2 to 30 carbon atoms and having an unsaturated hydrocarbon group; n represents a number ranging from 10 to 100,000; l and m independently represent an integerof 0 to 2; and p and q represents an integer of 0 to 4, provided that p + q > 0.
(FR)L'invention vise à proposer une composition de résine photosensible de type positif, présentant de bonnes propriétés mécaniques et une excellente aptitude au stockage par l'utilisation d'une résine novolaque. L'invention concerne donc une composition de résine photosensible de type positif comportant (a) une résine novolaque, (b) un polymère principalement composé d'une structure représentée par la formule générale (1) et/ou (2), (c) un composé quinonediazide, (d) un composé ayant un groupe alcoxyméthyle, et (e) un solvant. (1) (2) formules dans lesquelles R1 et R2 peuvent être identiques ou différents l'un de l'autre et représentent indépendamment un groupe organique ayant au moins 2 atomes de carbone et une valence de 2 à 8 ; R3 et R4 peuvent être identiques ou différents l'un de l'autre et représentent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone ; -NH-R5 dans la formule générale (1) et -CO-R6 dans la formule générale (2) représentent indépendamment un groupe terminal d'un polymère ; R5 et R6 représentent indépendamment un groupe organique monovalent ayant 2 à 30 atomes de carbone et ayant un groupe hydrocarbure insaturé ; n représente un nombre allant de 10 à 100 000 ; l et m représentent indépendamment un entier de 0 à 2 ; et p et q représentent un entier de 0 à 4, à la condition que p + q > 0.
(JA)  【課題】ノボラック樹脂を用いて、良好な機械特性を有し、保存安定性に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。   【解決手段】(a)ノボラック樹脂、(b)一般式(1)および/または(2)で表される構造を主成分とするポリマー、(c)キノンジアジド化合物、(d)アルコキシメチル基含有化合物および(e)溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。(一般式(1)~(2)中、RおよびRはそれぞれ同じでも異なっていてもよく、炭素数2以上の2価~8価の有機基を示す。RおよびRはそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または炭素数1~20の1価の有機基を示す。一般式(1)の-NH-Rおよび一般式(2)の-CO-Rはポリマーの末端基を示し、RおよびRは不飽和炭化水素基を有する炭素数2~30の1価の有機基を示す。nは10~100,000の範囲、lおよびmは0~2の整数、pおよびqは0~4の整数を示す。ただしp+q>0である。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)