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1. (WO2008098993) IMPOSING AND DETERMINING STRESS IN SUB-MICRON SAMPLES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/098993    International Application No.:    PCT/EP2008/051810
Publication Date: 21.08.2008 International Filing Date: 14.02.2008
Chapter 2 Demand Filed:    16.01.2009    
IPC:
G01L 5/00 (2006.01), G01L 5/18 (2006.01)
Applicants: UNIVERSITE CATHOLIQUE DE LOUVAIN [BE/BE]; Place de l'Université 1, B-1348 Louvain-la-Neuve (BE) (For All Designated States Except US).
PARDOEN, Thomas [BE/BE]; (BE) (For US Only).
RASKIN, Jean-Pierre [BE/BE]; (BE) (For US Only).
CARBONNELLE, Pierre [BE/BE]; (BE) (For US Only).
GRAVIER, Sébastien [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: PARDOEN, Thomas; (BE).
RASKIN, Jean-Pierre; (BE).
CARBONNELLE, Pierre; (BE).
GRAVIER, Sébastien; (FR)
Agent: BIRD, William E.; Bird Goën & Co, Klein Dalenstraat 42A, B-3020 Winksele (BE)
Priority Data:
PCT/BE2007/000017 14.02.2007 BE
Title (EN) IMPOSING AND DETERMINING STRESS IN SUB-MICRON SAMPLES
(FR) APPLICATION ET DÉTERMINATION D'UNE CONTRAINTE DANS DES ÉCHANTILLONS À L'ÉCHELLE DU SOUS-MICRON
Abstract: front page image
(EN)This invention provides a method and device for imposing and determining mechanical stress and/or strain, on micro-scale and nano-scale beams, films or multi-layers of materials such as metallic materials, polymer materials, ceramic materials, carbon-based materials and silicon-based materials using a set of micro- or nano-machines. The present invention also provides methods to derive and modify various properties or state of such nano- or microstructures, among others mechanical properties, and to measure the external stimulus that they are subjected to.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé et à un dispositif adaptés pour appliquer et déterminer une charge et/ou une contrainte mécanique sur des poutres à l'échelle du micromètre et à l'échelle du nanomètre, des films ou des couches multiples de matériaux - comme, par exemple, des matériaux métalliques, des matériaux polymères, des matériaux céramiques, des matériaux à base de carbone, et des matériaux à base de silicium - en utilisant un ensemble de machines micrométriques ou nanométriques. La présente invention se rapporte également à des procédés adaptés pour faire dériver et pour modifier diverses propriétés ou bien un état de ces microstructures ou de ces nanostructures - entre autres propriétés mécaniques - et pour mesurer le stimulus externe auquel elles sont soumises.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)