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1. (WO2008097219) SYSTEM AND METHOD FOR AUTOMATIC ELIMINATION OF ELECTROMIGRATION AND SELF HEAT VIOLATIONS DURING CONSTRUCTION OF A MASK LAYOUT BLOCK, MAINTAINING PROCESS DESIGN RULES AND LAYOUT CONNECTIVITY.
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/097219    International Application No.:    PCT/US2007/003253
Publication Date: 14.08.2008 International Filing Date: 06.02.2007
IPC:
G06F 17/50 (2006.01)
Applicants: RITTMAN, Dan [US/IL]; (IL)
Inventors: RITTMAN, Dan; (IL)
Common
Representative:
RITTMAN, Dan; P.O. Box 2040, 30300 Atlit (IL)
Priority Data:
Title (EN) SYSTEM AND METHOD FOR AUTOMATIC ELIMINATION OF ELECTROMIGRATION AND SELF HEAT VIOLATIONS DURING CONSTRUCTION OF A MASK LAYOUT BLOCK, MAINTAINING PROCESS DESIGN RULES AND LAYOUT CONNECTIVITY.
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR UNE ÉLIMINATION AUTOMATIQUE DE VIOLATIONS D'ÉLECTROMIGRATION ET DE CHAUFFAGE AUTOMATIQUE PENDANT LA CONSTRUCTION D'UN BLOC DE DISPOSITION DE MASQUE, EN MAINTENANT L'EXACTITUDE DES RÈGLES DE CONCEPTION DE PROCESSUS (DRC PROPRE) ET DE LA CONNECTIVITÉ DE DISPOSITION (L
Abstract: front page image
(EN)A system and method for automatic elimination of electromigration (EM) and self heat (SH) violations during construction of a mask layout block, maintaining the process design rules (DRC Clean) and layout connectivity (LVS Clean) correctness, are disclosed. The method includes analyzing a selected polygon for space, width and length, in a mask layout block and obtaining one or more electromigration and/or self heat rules associated with the polygon from a technology and an external constraints file. The method also includes analyzing contacts and VIA's for amount and location in order to comply with electromigration and self heat rules. The method provides a violation marker associated with the selected position for the polygon that graphically represents a width, space, length and other polygon's physical characteristics within the mask layout block where the selected polygon complies with the electromigration and/or self heat violation. The method and system also provides an option to automatically correct the electromigration (EM) and self heat violation of the mask layout block, maintaining the process design rules (DRC Clean) and layout connectivity (LVS Clean) correctness.
(FR)L'invention concerne un système et un procédé pour une élimination automatique de violations d'électromigration (EM) et de chauffage automatique (SH) pendant la construction d'un bloc de disposition de masque, en maintenant l'exactitude des règles de conception de processus (DRC propre) et de la connectivité de disposition (LVS propre). Le procédé comprend l'analyse d'un polygone sélectionné pour l'espace, la largeur et la longueur, dans un bloc de disposition de masque, et l'obtention d'une ou de plusieurs règles d'électromigration et/ou de chauffage automatique associées au polygone à partir d'une technologie et d'un fichier externe de contraintes. Le procédé comprend également l'analyse de contacts et de VIA concernant la quantité et l'emplacement, pour une conformité à des règles d'électromigration et de chauffage automatique. Le procédé propose un marqueur de violation associé à la position sélectionnée du polygone, représentant graphiquement une largeur, un espace, une longueur et d'autres caractéristiques physiques du polygone dans le bloc de disposition de masque, le polygone sélectionné répondant à la violation d'électromigration et/ou de chauffage automatique. Le procédé et le système proposent également une option pour corriger automatiquement la violation d'électromigration (EM) et de chauffage automatique du bloc de disposition de masque, en maintenant l'exactitude des règles de conception de processus (DRC propre) et de la connectivité de disposition (LVS propre).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)