WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2008096835) SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND COATING/DEVELOPING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/096835    International Application No.:    PCT/JP2008/052088
Publication Date: 14.08.2008 International Filing Date: 01.02.2008
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), F26B 5/04 (2006.01), F26B 21/14 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (For All Designated States Except US).
TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP) (For All Designated States Except US).
MATSUOKA, Takaaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
INOKUCHI, Atsutoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MATSUOKA, Takaaki; (JP).
INOKUCHI, Atsutoshi; (JP).
OHMI, Tadahiro; (JP)
Agent: KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International, Shinjuku Akebonobashi Building, 1-12, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
Priority Data:
2007-025969 05.02.2007 JP
Title (EN) SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND COATING/DEVELOPING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET APPAREIL DE REVÊTEMENT/DÉVELOPPEMENT
(JA) 基板処理方法及び塗布現像処理装置
Abstract: front page image
(EN)A processing container of a coating/developing apparatus is provided with an ultraviolet irradiation section for irradiating a substrate with ultraviolet having a wavelength of 120-190nm; a gas supply port for supplying an inert gas; and an exhaust port for exhausting atmosphere in the processing container. The processing container is kept to have atmosphere not containing oxygen atoms and water molecules by supplying the inert gas from the gas supply port and exhausting the atmosphere inside the processing chamber from the exhaust port. Under such atmosphere, the substrate is irradiated with ultraviolet from an ultraviolet irradiating section. At the time of processing the substrate after development, a solvent contained in a resist can be removed without deforming the resist.
(FR)L'invention concerne un contenant de traitement d'un appareil de revêtement/développement, qui comporte une section d'irradiation aux ultraviolets pour irradier un substrat avec des ultraviolets ayant une longueur d'onde de 120-190 nm ; un orifice d'alimentation en gaz pour une alimentation en gaz inerte ; et un orifice d'échappement pour faire s'échapper l'atmosphère dans le contenant de traitement. Le contenant de traitement est conservé pour avoir une atmosphère ne contenant pas d'atomes d'oxygène et de molécules d'eau par l'introduction de gaz inerte à partir de l'orifice d'alimentation en gaz et par l'échappement de l'atmosphère dans la chambre de traitement à partir de l'orifice d'échappement. Sous une telle atmosphère, le substrat est irradié par des ultraviolets provenant d'une section d'irradiation aux ultraviolets. Au moment du traitement du substrat après développement, un solvant contenu dans un résist peut être retiré sans déformation du résist.
(JA)本発明の塗布現像処理装置の処理容器は、基板に対して120nm~190nmの波長の紫外線を照射する紫外線照射部と、不活性ガスを供給するガス供給口と、処理容器内の雰囲気を排気する排気口とを有している。ガス供給口から不活性ガスを供給し、排気口から処理容器の内部の雰囲気を排気することで、処理容器内が酸素原子および水分子を含まない雰囲気に維持される。この雰囲気下で基板に対して紫外線照射部から紫外線が照射される。本発明によれば、現像処理を行った後に基板を処理する際に、レジストを変形させずに、レジスト中に含まれる溶剤を除去することができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)