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1. (WO2008095695) METHOD AND DEVICE FOR MONITORING MULTIPLE MIRROR ARRAYS IN AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/095695    International Application No.:    PCT/EP2008/000920
Publication Date: 14.08.2008 International Filing Date: 06.02.2008
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudof-Eber-Str. 2, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
XALTER, Stefan [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KWAN, Yim-Bun-Patrick [GB/DE]; (DE) (For US Only).
MAJOR, András, G. [HU/DE]; (DE) (For US Only).
MAUL, Manfred [DE/DE]; (DE) (For US Only).
EISENMENGER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only).
FIOLKA, Damian [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HORN, Jan [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DEGÜNTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BACH, Florian [DE/DE]; (DE) (For US Only).
PATRA, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WANGLER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LAYH, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: XALTER, Stefan; (DE).
KWAN, Yim-Bun-Patrick; (DE).
MAJOR, András, G.; (DE).
MAUL, Manfred; (DE).
EISENMENGER, Johannes; (DE).
FIOLKA, Damian; (DE).
HORN, Jan; (DE).
DEGÜNTHER, Markus; (DE).
BACH, Florian; (DE).
PATRA, Michael; (DE).
WANGLER, Johannes; (DE).
LAYH, Michael; (DE)
Agent: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Epplestr. 14, 70597 Stuttgart (DE)
Priority Data:
10 2007 005 875.8 06.02.2007 DE
10 2007 036 245.7 02.08.2007 DE
60/954,150 06.08.2007 US
61/015,999 21.12.2007 US
Title (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ÜBERWACHUNG VON MEHRFACHSPIEGELANORDNUNGEN IN EINEM BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) METHOD AND DEVICE FOR MONITORING MULTIPLE MIRROR ARRAYS IN AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR SURVEILLER DES SYSTÈMES À MIROIRS MULTIPLES DANS UNE INSTALLATION D'ÉCLAIRAGE D'INSTALLATION D'ÉCLAIRAGE DE PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(DE)Ein Beleuchtungssystem (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) hat eine Pupillenfläche und eine im Wesentlichen flächige Anordnung vorzugsweise individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente (28) zur variablen Ausleuchtung der Pupillenfläche. Durch jedes Strahlablenkungselement (28) lässt sich eine Ablenkung eines darauf auftreffenden Projektionslichtbündels (32) in Abhängigkeit von einem an dem Strahlablenkungselement (28) anliegenden Steuersignal erzielen. Eine Messbeleuchtungseinrichtung (54, 56, 58, 60; 88; 90; 98) richtet ein von den Projektionslichtbündeln (32) unabhängiges Messlichtbündel (36) auf ein Strahlablenkungselement (28). Eine Detektoreinrichtung erfasst das Messlichtbündel (38) nach Ablenkung an dem Strahlablenkungselement (28). Eine Auswertungseinheit bestimmt die Ablenkung des Projektionslichtbündels (32) aus von der Detektoreinrichtung bereitgestellten Messsignalen.
(EN)Disclosed is an illumination system (12) of a microlithographic projection exposure apparatus (10), comprising a pupil surface and a substantially planar arrangement of beam deflecting elements (28) which can preferably be triggered in an individual manner and are used for variably illuminating the pupil surface. Each beam deflecting element (28) allows a projection light beam (32) that is incident thereon to be deflected in accordance with a control signal which is applied to the beam deflecting element (28). A measuring illumination device (54, 56, 58, 60; 88; 90; 98) directs a measuring light beam (36) that is independent from the projection light beams (32) onto a beam deflecting element (28). A detector device detects the measuring light beam (38) after the latter has been deflected on the beam deflecting element (28). An evaluation unit determines the deflection of the projection light beam (32) from the test signals supplied by the detector device.
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage (12) d'installation d'éclairage de projection microlithographique (10), qui présente une surface pupillaire et un agencement sensiblement plan d'éléments de déflexion de faisceau (28), de préférence à commande individuelle, pour assurer un éclairage variable de la surface pupillaire. Une déflexion de faisceau de lumière de projection (32) incident peut être effectuée par chaque élément de déflexion de faisceau (28), en fonction d'un signal de commande présent au niveau de l'élément de déflexion de faisceau (28). Un dispositif d'éclairage de mesure (54, 56, 58, 60; 88; 90; 98) oriente un faisceau lumineux de mesure (36), indépendant des faisceaux lumineux de projection (32), sur un élément de déflexion de faisceau (28). Un dispositif de détection détecte le faisceau lumineux de mesure (38) après déflexion sur l'élément de déflexion de faisceau (28). Une unité d'évaluation détermine la déflexion du faisceau lumineux de projection (32) à partir de signaux de mesure fournis par le dispositif de détection.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)