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1. (WO2008094872) MICROBIAL DEGRADATION OF WATER-BORNE PAINT CONTAINING HIGH LEVELS OF ORGANIC SOLVENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/094872    International Application No.:    PCT/US2008/052242
Publication Date: 07.08.2008 International Filing Date: 29.01.2008
IPC:
C02F 3/34 (2006.01), C02F 103/14 (2006.01)
Applicants: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH [DE/DE]; D-10507 Berlin Erasmusstrasse, 10553 Berlin (DE) (For All Designated States Except US).
ALMADIDY, Amer [CA/US]; (US) (For US Only).
LAVAYSSIERRE, Natacha [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: ALMADIDY, Amer; (US).
LAVAYSSIERRE, Natacha; (FR)
Agent: ADAMS, Thomas, W.; Renner, Otto, Boisselle & Sklar, LLP, 1621 Euclid Avenue, 19th Floor, Cleveland, Ohio 44115 (US)
Priority Data:
60/887,070 29.01.2007 US
Title (EN) MICROBIAL DEGRADATION OF WATER-BORNE PAINT CONTAINING HIGH LEVELS OF ORGANIC SOLVENT
(FR) DÉCOMPOSITION MICROBIENNE D'UNE PEINTURE À BASE D'EAU CONTENANT DES NIVEAUX ÉLEVÉS DE SOLVANT ORGANIQUE
Abstract: front page image
(EN)A method for degrading, detackifying and reducing solvent in water comprising organic solvent-laden water-borne paint that comprises adding to the water an effective degrading, detackifying and/or solvent-reducing amount of at least one microorganism culture and sufficient micronutrients to sustain the growth of the at least one microorgansim culture and to reduce solvent content of the water. A method of reducing chemical oxygen demand in water comprising organic solvent-laden water-borne paint, wherein the water contains an excess amount of organic solvent from one or both of paint spray operations and paint spray nozzle cleaning operations, the method comprising adding to the water an effective degrading and detackifying amount of at least one microorganism culture and micronutrients to sustain the growth of the at least one microorgansim culture, whereby chemical oxygen demand in the water is reduced by at least 50% relative to the same system without adding the micronutrients.
(FR)L'invention concerne un procédé servant à décomposer, éliminer l'adhésivité et réduire la teneur en solvant d'une eau comprenant une peinture à base d'eau chargée en solvant organique, ledit procédé consistant à ajouter à l'eau une quantité de décomposition, d'élimination de l'adhésivité et/ou de réduction de la teneur en solvant efficace d'au moins une culture de microorganismes et des micronutriments en quantité suffisante pour entretenir le développement de ladite ou desdites cultures de microorganismes et pour réduire la teneur en solvant de l'eau. L'invention concerne également un procédé de réduction de la demande chimique en oxygène d'une eau comprenant une peinture à base d'eau chargée en solvant organique, l'eau contenant une quantité en excès de solvant organique provenant soit d'opérations de pulvérisation de peinture soit d'opérations de nettoyage de buses de pulvérisation de peinture ou des deux, ledit procédé consistant à ajouter à l'eau une quantité de décomposition et d'élimination de l'adhésivité efficace d'au moins une culture de microorganismes et des micronutriments pour entretenir le développement de ladite ou desdites cultures de microorganismes, ce par quoi on réduit la demande chimique en oxygène de l'eau d'au moins 50 % par rapport au même système auquel on n'a pas ajouté les micronutriments.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)