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1. (WO2008094297) A MULTI-SOURCE PLASMA FOCUSED ION BEAM SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/094297    International Application No.:    PCT/US2007/073618
Publication Date: 07.08.2008 International Filing Date: 16.07.2007
IPC:
G21G 5/00 (2006.01)
Applicants: FEI COMPANY [US/US]; 5350 NE Dawson Creek Drive, Hillsboro, OR 97124-5793 (US) (For All Designated States Except US).
SMITH, Noel [GB/US]; (US) (For US Only).
CHANDLER, Clive D. [AU/US]; (US) (For US Only).
UTLAUT, Mark W. [US/US]; (US) (For US Only).
TESCH, Paul P. [US/US]; (US) (For US Only).
TUGGLE, Dave [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SMITH, Noel; (US).
CHANDLER, Clive D.; (US).
UTLAUT, Mark W.; (US).
TESCH, Paul P.; (US).
TUGGLE, Dave; (US)
Agent: SCHEINBERG, Michael O.; P.O. Box 164140, Austin, TX 78716-4140 (US)
Priority Data:
60/830,978 14.07.2006 US
Title (EN) A MULTI-SOURCE PLASMA FOCUSED ION BEAM SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE FAISCEAU IONIQUE FOCALISÉ À PLASMA MULTISOURCE
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a plasma ion beam system that includes multiple gas sources and that can be used for performing multiple operations using different ion species to create or alter submicron features of a work piece. The system preferably uses an inductively coupled, magnetically enhanced ion beam source, suitable in conjunction with probe-forming optics sources to produce ion beams of a wide variety of ions without substantial kinetic energy oscillations induced by the source, thereby permitting formation of a high resolution beam.
(FR)La présente invention concerne un système de faisceau ionique à plasma qui comprend de multiples sources de gaz et peut être utilisé pour effectuer de multiples opérations en utilisant différentes espèces d'ions pour créer ou modifier des caractéristiques en dessous du micron d'une pièce à usiner. Le système utilise de préférence une source de faisceau ionique renforcée magnétiquement, couplée de manière inductive, adaptée en liaison avec des sources optiques de formation de sonde pour produire des faisceaux ioniques d'une grande diversité d'ions sans oscillations importantes d'énergie cinétique induites par la source, ce qui permet la formation d'un faisceau à résolution élevée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)