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1. (WO2008094143) SYSTEM AND METHOD FOR AUTOMATIC ELIMINATION OF ELECTROMIGRATION AND SELF HEAT VIOLATIONS OF A MASK LAYOUT BLOCK, MAINTAINING THE PROCESS DESIGN RULES (DRC CLEAN) AND LAYOUT CONNECTIVITY (LVS CLEAN) CORRECTNESS.
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2008/094143    International Application No.:    PCT/US2007/002494
Publication Date: 07.08.2008 International Filing Date: 30.01.2007
IPC:
G06F 17/50 (2006.01)
Applicants: RITTMAN, Dan [US/IL]; (IL)
Inventors: RITTMAN, Dan; (IL)
Common
Representative:
RITTMAN, Dan; P.O. Box 2040, 30300 Atlit (IL)
Priority Data:
Title (EN) SYSTEM AND METHOD FOR AUTOMATIC ELIMINATION OF ELECTROMIGRATION AND SELF HEAT VIOLATIONS OF A MASK LAYOUT BLOCK, MAINTAINING THE PROCESS DESIGN RULES (DRC CLEAN) AND LAYOUT CONNECTIVITY (LVS CLEAN) CORRECTNESS.
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION AUTOMATIQUE DE VIOLATIONS D'ÉLECTROMIGRATION ET D'AUTO-ÉCHAUFFEMENT D'UN BLOC DE PRÉPARATION DE MASQUE, DE MAINTIEN DES RÈGLES DE CONCEPTION DU TRAITEMENT (DRC CLEAN) ET L'EXACTITUDE DE LA CONNECTIVITÉ DE PRÉPARATION (LVS CLEAN)
Abstract: front page image
(EN)A system and method for automatic correction of electromigration (EM) and self heat (SH) violations of a mask layout block, maintaining the process design rules (DRC Clean) and layout connectivity (LVS Clean) correctness are disclosed. The method includes analyzing polygons for space, width and length, in a mask layout block and obtaining one or more electromigration and/or self heat rules associated with the polygon from a technology and an external constraints file. The system automatically corrects all EM and/or SH violations if found, maintaining the process design rules (DRC Clean) and layout connectivity (LVS Clean) correctness. The method also includes analysis and automatic correction of contacts and VIA's according to amount and location in order to comply with electromigration and self heat rules as taken from technology or external constraints file. The method provides a violation marker associated with the selected position for the polygon that graphically represents a width, space, length violation. The method and system works on GDSII format files and on industry standards layout editor's database.
(FR)L'invention concerne un système et un procédé pour la correction automatique de violations d'électromigration (EM) et d'auto-échauffement (SH) d'un bloc de préparation de masque, pour le maintien des règles de conception du traitement (DRC Clean) et l'exactitude de la connectivité de préparation (LVS Clean). Le procédé comprend l'analyse de polygones en ce qui concerne l'espace, la largeur et la longueur, dans un bloc de préparation de masque et l'obtention d'une ou de plusieurs règles d'électromigration et/ou d'auto-échauffement associées au polygone à partir d'une technologie et d'un fichier de contraintes extérieures. Le système corrige automatiquement toutes les violations d'EM et/ou de SH, s'il en trouve, maintient les règles de conception du traitement (DRC Clean) et l'exactitude de la connectivité de préparation (LVS Clean). Le procédé comprend aussi l'analyse et la correction automatique de contacts et de trous d'interconnexion conformément à une quantité et un emplacement afin de satisfaire aux règles d'électromigration et d'auto-échauffement telles que prises dans une technologie ou un fichier de contraintes extérieures. Le procédé propose un marqueur de violation associé à la position sélectionnée pour le polygone qui représente graphiquement une violation de largeur, d'espace, de longueur. Le procédé et le système fonctionnent sur des fichiers de format GDSII et sur des données de base d'éditeur de préparation de normes industrielles.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)