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1. WO2008076414 - SELF-REPLICATING MATERIALS

Publication Number WO/2008/076414
Publication Date 26.06.2008
International Application No. PCT/US2007/025749
International Filing Date 17.12.2007
IPC
C CHEMISTRY; METALLURGY
12
BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
Q
MEASURING OR TESTING PROCESSES INVOLVING ENZYMES OR MICRO-ORGANISMS; COMPOSITIONS OR TEST PAPERS THEREFOR; PROCESSES OF PREPARING SUCH COMPOSITIONS; CONDITION-RESPONSIVE CONTROL IN MICROBIOLOGICAL OR ENZYMOLOGICAL PROCESSES
1
Measuring or testing processes involving enzymes or micro-organisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions
68
involving nucleic acids
C12Q 1/68 (2006.01)
CPC
B82Y 20/00
B82Y 5/00
C12N 15/10
C12N 15/1031
C12N 15/1068
C12Q 1/682
Applicants
  • NEW YORK UNIVERSITY [US/US]; 650 First Avenue New York, NY 10016, US (AllExceptUS)
  • SEEMAN, Nadrian [US/US]; US (AllExceptUS)
  • CHAIKIN, Paul Michael [US/US]; US (UsOnly)
  • PINE, David [US/US]; US (UsOnly)
  • GRIER, David G. [US/US]; US (UsOnly)
Inventors
  • CHAIKIN, Paul Michael; US
  • PINE, David; US
  • GRIER, David G.; US
Agents
  • RECHTIN, Michael D. ; Foley & Lardner Llp 321 N. Clark Street, Ste. 2800 Chicago, IL 60610, US
Priority Data
60/875,27215.12.2006US
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) SELF-REPLICATING MATERIALS
(FR) MATÉRIAUX D'AUTORÉPLICATION
Abstract
(EN)
The invention provides micron and sub-micron scale particles designed to recognize and selectively interact with each other by exploiting the recognition and specificity enabled by DNA-sequence-encoded coatings. Such materials possess sufficient information coded in their chemical and physical interactions to self assemble and self replicate. The invention further provides methods of using such materials to create self replicating and organizing materials. Replicated copies are permanently linked and then thermally detached, freeing them to act as templates for further growth. This new class of condensed matter systems, provides means to design and control the structure and function of materials and machines from the microscopic to life-size. In another aspect of the invention, depletion type forces and depletion zones can be utilized in the implementation of the self assembly and self replication of materials, including without limitation colloidal particles. The invention further provides novel means of synthesis and materials built by such synthesis, which may be used in a variety of applications, including microelectronics.
(FR)
La présente invention concerne des particules à échelle micronique et submicronique conçues pour reconnaître et interagir sélectivement les unes sur les autres en exploitant la reconnaissance et la spécificité permises par les revêtements encodés par une séquence d'ADN. De tels matériaux possèdent une information suffisante codée dans leurs interactions chimiques et physiques de façon à s'auto-assembler et s'autorépliquer. L'invention concerne en outre des procédés utilisant de tels matériaux pour créer des matériaux d'autoréplication et d'organisation. Des copies répliquées sont liées de manière permanente et ensuite détachées thermiquement, les libérant pour agir en tant que modèles afin de se développer davantage. Cette nouvelle classe de systèmes de matière condensée, fournit des moyens pour concevoir et commander la structure et la fonction de matériaux et de machines de taille microscopique à grandeur nature. Dans un autre aspect de l'invention, les forces de dépression et les zones de dépression peuvent être utilisées dans la réalisation de l'auto-assemblage et l'autoréplication des matériaux, comprenant sans limitation des particules colloïdales. L'invention concerne en outre de nouveaux moyens de synthèse et des matériaux construits par une telle synthèse, pouvant être utilisés dans une variété d'applications, comprenant la microélectronique.
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