An apparatus for increasing uniformity of thin films deposited on a substrate includes multiple deposition sources to accommodate and discharge evaporation material. A member supports the deposition sources in a selected arrangement. A heater can be used to apply heat to the deposition sources. In another embodiment, the apparatus can include a container to accommodate evaporation material. The container may include aperture at or near its center. A cover caps an opening of the container and includes multiple gas outlets. The apparatus further includes a heater disposed along an inner surface of the aperture and along an outer surface of the container.

Appareil destiné à augmenter l'uniformité de films fins déposés sur un substrat comprenant des sources multiples de dépôt pour contenir et décharger un matériau d'évaporation. Un élément permet de maintenir les sources de dépôt dans une disposition choisie. Un élément chauffant peut être employé pour appliquer de la chaleur aux sources de dépôt. Dans un autre mode de réalisation, l'appareil peut comprendre un récipient destiné à contenir le matériau d'évaporation. Le récipient peut comprendre une ouverture en son centre ou près de celui-ci. Un couvercle recouvre une ouverture du récipient et comprend de multiples orifices de sortie de gaz. L'appareil comprend en outre un élément chauffant disposé sur une surface interne de l'ouverture et sur une surface externe du récipient.