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1. (WO2007098288) INTERVERTEBRAL IMPLANT WITH FIXATION GEOMETRY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/098288    International Application No.:    PCT/US2007/005098
Publication Date: 30.08.2007 International Filing Date: 27.02.2007
IPC:
A61F 2/44 (2006.01)
Applicants: SYNTHES (U.S.A.) [US/US]; 1302 Wrights Lane East, West Chester, PA 19380 (US) (CA only).
SYNTHES GMBH [CH/CH]; Eimattstrasse 3, CH-4436 Oberdorf (CH) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BW, BY, BZ, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SV, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
MESSERLI, Dominique [CH/US]; (US) (For US Only).
WALSH, Ryan, T. [US/US]; (US) (For US Only).
RANDALL, Brandon, L. [US/US]; (US) (For US Only).
EVANS, David, E. [US/US]; (US) (For US Only).
MEYERS, Jackie [US/US]; (US) (For US Only).
KOCH, David [US/CH]; (CH) (For US Only).
HUNZIKER, Markus [CH/CH]; (CH) (For US Only)
Inventors: MESSERLI, Dominique; (US).
WALSH, Ryan, T.; (US).
RANDALL, Brandon, L.; (US).
EVANS, David, E.; (US).
MEYERS, Jackie; (US).
KOCH, David; (CH).
HUNZIKER, Markus; (CH)
Agent: ROTHERY, Brian, M.; Stroock & Stroock & Lavan Llp, 180 Maiden Lane, New York, NY 10038 (US)
Priority Data:
60/777,663 27.02.2006 US
60/777,732 27.02.2006 US
60/838,229 16.08.2006 US
Title (EN) INTERVERTEBRAL IMPLANT WITH FIXATION GEOMETRY
(FR) IMPLANT INTERVERTEBRAL AVEC GEOMETRIE DE FIXATION
Abstract: front page image
(EN)An intervertebral spacer implant (80) is provided with a retention mechanism (86) to help alleviate expulsion and movement of the implant when placed in the spine while providing an implant that is easier to insert in the spine. In one embodiment the retention mechanism comprises a keel on at least one of the inferior or superior faces of the spacer implant preferably extending in an anterior-posterior direction. In another embodiment the implant comprises a spacer (84) and a plate (82), the plate comprising a supplemental or alternative retention mechanism. In one embodiment the retention mechanism comprises one or more holes (88) in the anterior end of the plate. In yet another embodiment, the retention mechanism comprises one or more blades that are in a first position when inserted and are preferably rotated to a second position that engages the superior and inferior vertebrae.
(FR)L'invention concerne un implant d'espacement intervertébral pourvu d'un mécanisme de rétention pour contribuer à atténuer l'expulsion et le mouvement de l'implant lorsqu'il est placé dans la colonne vertébrale, tout en rendant l'implant plus facile à insérer dans la colonne vertébrale. Dans un mode de réalisation, le mécanisme de rétention comporte une arête sur au moins une des faces inférieure et supérieure de l'implant d'espacement, s'étendant de préférence dans une direction antérieure-postérieure. Dans un autre mode de réalisation, l'implant comporte une entretoise et une plaque, ladite plaque comportant un mécanisme de rétention supplémentaire ou de substitution. Dans un mode de réalisation, le mécanisme de rétention comporte, dans l'extrémité antérieure de la plaque, un ou plusieurs trous dirigés vers la plaque terminale supérieure, inférieure, voire les deux, de vertèbres adjacentes. Dans un autre mode de réalisation encore, le mécanisme de rétention comporte une ou plusieurs lames qui se situent dans une première position lorsqu'elles sont insérées et sont de préférence tournées vers une deuxième position qui s'enclenche avec les vertèbres supérieure et inférieure.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)