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1. (WO2007097907) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS AND IMAGEABLE MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/097907    International Application No.:    PCT/US2007/003077
Publication Date: 30.08.2007 International Filing Date: 06.02.2007
IPC:
G03F 7/029 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01)
Applicants: EASTMAN KODAK COMPANY [US/US]; 343 State Street, Rochester, New York 14650-2201 (US) (For All Designated States Except US).
TAO, Ting [CN/US]; (US) (For US Only).
WEST, Paul Richard [US/US]; (US) (For US Only).
BECKLEY, Scott A. [US/US]; (US) (For US Only).
MILLER, Nicki R. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: TAO, Ting; (US).
WEST, Paul Richard; (US).
BECKLEY, Scott A.; (US).
MILLER, Nicki R.; (US)
Common
Representative:
EASTMAN KODAK COMPANY; 343 State Street, Rochester, New York 14650-2201 (US)
Priority Data:
11/356,518 17.02.2006 US
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS AND IMAGEABLE MATERIALS
(FR) COMPOSITIONS SENSIBLES AU RAYONNEMENT ET MATÉRIAUX IMAGEABLES
Abstract: front page image
(EN)A negative-working radiation-sensitive composition includes a polymeric binder comprising a polymer backbone and having attached thereto a carbazole derivative represented by the following Structure (I) wherein Y is a direct bond or a linking group, and R1 to R8 are independently hydrogen, or an alkyl, alkenyl, aryl, halo, cyano, alkoxy, acyl, acyloxy, or carboxylate groups, or any adjacent R1 through R8 groups can together form a carbocyclic or heterocyclic group or a fused aromatic ring. The composition can be sensitive to radiation having a maximum wavelength of from 150 to 1500 nm, and can be used to prepare negative-working imageable elements that be imaged and developed as lithographic printing plates.
(FR)L'invention concerne une composition sensible au rayonnement de polarité négative qui comporte un liant polymère comprenant un squelette polymère et un dérivé de carbazole auquel il est lié, représenté par la structure (I) suivante, dans laquelle Y représente une liaison directe ou un groupe de liaison, et R1 à R8 représentent indépendamment hydrogène, ou un alkyle, alcényle, aryle, halo, cyano, alcoxy, acyle, acyloxy, ou des groupes carboxylate ou n'importe quel groupe contigu de R1 à R8 pouvant former un groupe carbocyclique ou hétérocyclique ou un cycle aromatique fusionné. Ladite composition peut être sensible à un rayonnement présentant une longueur d'onde maximale comprise entre 150 et 1500 nm et servir à préparer des éléments imageables à polarité négative que l'on peut imager et développer comme plaques d'impression lithographiques.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)