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1. (WO2007095876) HIGHLY REFLECTIVE LAYER SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING THE LAYER SYSTEM AND DEVICE FOR CARRYING OUT THE METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/095876    International Application No.:    PCT/DE2006/001561
Publication Date: 30.08.2007 International Filing Date: 06.09.2006
IPC:
C23C 28/02 (2006.01), C23C 28/04 (2006.01), C23C 14/02 (2006.01), C23C 14/14 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH [DE/DE]; Plattleite 19/29, 01324 Dresden (DE) (For All Designated States Except US).
FABER, Joerg [DE/DE]; (DE) (For US Only).
REINHOLD, Ekkehart [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DEUS, Carsten [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HECHT, Hans-Christian [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHUBERT, David [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KRALAPP, Uwe [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HUMMEL, Hendrik [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: FABER, Joerg; (DE).
REINHOLD, Ekkehart; (DE).
DEUS, Carsten; (DE).
HECHT, Hans-Christian; (DE).
SCHUBERT, David; (DE).
KRALAPP, Uwe; (DE).
HUMMEL, Hendrik; (DE)
Agent: PITSCH, Matthias; Lippert Stachow & Partner, Krenkelstrasse 3, 01309 Dresden (DE)
Priority Data:
10 2006 008 352.0 21.02.2006 DE
Title (DE) HOCHREFLEKTIERENDES SCHICHTSYSTEM, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES SCHICHTSYSTEMS UND EINRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS
(EN) HIGHLY REFLECTIVE LAYER SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING THE LAYER SYSTEM AND DEVICE FOR CARRYING OUT THE METHOD
(FR) SYSTÈME DE COUCHES HAUTEMENT RÉFLÉCHISSANTES, PROCÉDÉ DE FABRICATION DU SYSTÈME DE COUCHES ET DISPOSITIF DE RÉALISATION DU PROCÉDÉ
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein hochreflektierendes Schichtsystem zur Beschichtung von Substraten mit reflexionserhöhenden Schichten, ein Verfahren zur Herstellung des Schichtsystems sowie eine Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens. Auf der Oberfläche des Substrats (S0) ist eine erste funktionelle Reflexionsschicht (S3) aufgetragen. Die erste funktionellen Reflexionsschicht (S3) kann reflektierend oder teilreflektierend sein und aus Metall oder einer Metalllegierung bestehen, die einen oder mehrere Bestandteile aus der Gruppe Kupfer, Nickel, Aluminium, Titan, Molybdän, Zinn enthält. Darüber ist eine zweite funktionelle Reflexionsschicht (S5) vorgesehen. Die zweite funktionelle Reflexionsschicht (S5) kann aus Metall oder einer Metalllegierung, beispielsweise Silber oder einer Silberlegierung, bestehen. Über der zweiten funktionellen Reflexionsschicht (S5) folgt eine erste transparente dielektrische Schicht (S7). Die erste transparente dielektrische Schicht (S7) kann beispielsweise aus Siliziumoxid bestehen. Über der ersten transparenten dielektrischen Schicht (S7) ist eine zweite transparente dielektrische Schicht (S8) angeordnet. Diese kann beispielsweise aus Titanoxid bestehen.
(EN)The invention relates to a highly reflective layer system for coating substrates with reflection-enhancing layers, to a method for producing the layer system and to a device for carrying out the method. On the surface of the substrate (S0), a first functional reflection layer (S3) is applied. The first functional reflection layer (S3) may be reflective or partially reflective and consist of metal or a metal alloy which contains one or more constituents from the group comprising copper, nickel, aluminium, titanium, molybdenum and tin. Provided over it is a second functional reflection layer (S5). The second functional reflection layer (S5) may consist of metal or a metal alloy, for example silver or a silver alloy. Over the second functional reflection layer (S5) there follows a first transparent dielectric layer (S7). The first transparent dielectric layer (S7) may consist, for example, of silicon oxide. Arranged over the first transparent dielectric layer (S7) is a second transparent dielectric layer (S8). This may consist, for example, of titanium oxide.
(FR)L'invention concerne un système de couches hautement réfléchissantes pour le revêtement de substrats avec des couches hautement réfléchissantes, un procédé de réalisation du système de couches ainsi qu'un dispositif de réalisation du procédé. Une première couche de réflexion fonctionnelle (S3) est disposée à la surface du substrat (S0). La première couche de réflexion fonctionnelle (S3) peut être réfléchissante ou partiellement réfléchissante et être constituée de métal ou d'un alliage métallique, qui contient un ou plusieurs éléments du groupe constitué du cuivre, du nickel, de l'aluminium, du titane, du molybdène et du zinc. Une seconde couche de réflexion fonctionnelle (S5) est disposée sur la première. La deuxième couche de réflexion fonctionnelle (S5) peut être constituée de métal ou d'un alliage métallique, par exemple de l'argent ou un alliage d'argent. Une première couche diélectrique transparente (S7) est disposée sur la seconde couche de réflexion fonctionnelle (S5). La première couche diélectrique transparente (S7) peut être composée par exemple d'oxyde de silicium. Une seconde couche diélectrique transparente (S8) est disposée sur la première couche diélectrique transparente (S7). Celle-ci peut par exemple être constituée d'oxyde de titane.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)