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1. (WO2007095310) BICONE PATTERN SHAPING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/095310    International Application No.:    PCT/US2007/003953
Publication Date: 23.08.2007 International Filing Date: 12.02.2007
IPC:
H01Q 13/00 (2006.01)
Applicants: EMS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 660 Engineering Drive, Norcross, GA 30092 (US) (For All Designated States Except US).
BLACK, Donald, N., Jr. [US/US]; (US) (For US Only).
NEWBURY, Terence, D. [US/US]; (US) (For US Only).
JONES, Alan [US/US]; (US) (For US Only).
PARR, Dean, R. [US/US]; (US) (For US Only).
BUNCE, Bayne [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BLACK, Donald, N., Jr.; (US).
NEWBURY, Terence, D.; (US).
JONES, Alan; (US).
PARR, Dean, R.; (US).
BUNCE, Bayne; (US)
Agent: KING & SPALDING LLP; Intellectual Property Dept. - Patents, 1180 Peachtree Street, NE, 34th Floor, Atlanta, GA 30309-3521 (US)
Priority Data:
60/772,232 10.02.2006 US
Title (EN) BICONE PATTERN SHAPING DEVICE
(FR) dispositif de formation de schéma bicône
Abstract: front page image
(EN)A broadband omni-directional bicone antenna. The antenna can comprise conductive surfaces of conical voids provided within a solid dielectric structure. The outside surface of the solid structure can support a radio frequency (RF) lens geometry operable for beam forming. The beam forming can modify the elevation pattern of the electromagnetic radiation from the bicone antenna. The solid dielectric structure may be machined or molded from a single piece of material. The conical voids provided within the solid structure can be metallized to provide conductive bicone radiators. The outer surface beam shaping lenses can be zoned or continuous and can provide elevation patterns with increased gain, cosecant squared falloff, or various other patterns. The beam shaping lens may be formed from any low-loss dielectric. Alternatively, the lens may be formed from a less dense material such as dielectric foam that can support radial conductive beam forming vanes.
(FR)L'invention concerne une antenne bicône omnidirectionnelle large bande. L'antenne peut comprendre des surfaces conductrices de vides coniques disposés dans une structure diélectrique pleine. La surface externe de la structure solide peut supporter une géométrie de lentille fréquence radio (RF) pouvant servir pour la formation de faisceaux. La formation de faisceaux peut modifier le schéma d'élévation de la radiation électromagnétique provenant de l'antenne bicône. La structure diélectrique pleine peut être usinée ou moulée à partir d'un simple morceau de matériau. Les vides coniques disposés dans la structure solide peuvent être métallisés pour constituer des radiateurs bicônes conducteurs. Les lentilles de conformage de faisceaux de la surface externe peuvent être divisées en zones ou continues et peuvent constituer des schémas d'élévation au gain accru, en dégradé carré cosécant, ou divers autres schémas. La lentille de conformage de faisceaux peut être constituée de n'importe quel diélectrique à faible perte. En variante, la lentille peut être constituée d'un matériau moins dense comme une mousse diélectrique capable de supporter des aubes radiales de formation de faisceaux conducteurs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)