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1. (WO2007094470) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/094470    International Application No.:    PCT/JP2007/052885
Publication Date: 23.08.2007 International Filing Date: 16.02.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAGASAKA, Hiroyuki; (JP)
Agent: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
Priority Data:
2006-039229 16.02.2006 JP
2006-039833 16.02.2006 JP
2006-039927 16.02.2006 JP
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is an exposure apparatus (EX) comprising an optical system (PL) and a sensing device (8). The optical system (PL) comprises an optical device (20) into which a first exposure light (EL1) and a second exposure light (EL2) enter, and the optical system (PL) irradiates a first exposure area (AR1) and a second exposure area (AR2) with the first exposure light and the second exposure light from the optical device. The sensing device (8) senses at least one of the first exposure light and the second exposure light from the optical device traveling in a direction different from the direction to the first and second exposure areas.
(FR)La présente invention concerne un appareil d'exposition (EX) comprenant un système optique (PL) et un dispositif capteur (8). Le système optique (PL) comprend un dispositif optique (20) dans lequel entrent une première lumière d'exposition (EL1) et une seconde lumière d'exposition (EL2), et le système optique (PL) irradie une première zone d'exposition (AR1) et une seconde zone d'exposition (AR2) avec la première lumière d'exposition et la seconde lumière d'exposition émise par le dispositif optique. Le dispositif capteur (8) capte la première et/ou la seconde lumières d'exposition émises par le dispositif optique se déplaçant dans une direction différente de la direction vers les première et seconde zones d'exposition.
(JA) 露光装置(EX)は、第1露光光(EL1)と第2露光光(EL2)とが入射する光学素子(20)を有し、光学素子からの第1露光光と第2露光光とを第1露光領域(AR1)と第2露光領域(AR2)とに照射する光学システム(PL)と、光学素子から第1及び第2露光領域に向かう方向とは異なる方向に向かう第1露光光及び第2露光光の少なくとも一方を検出する検出装置(8)とを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)