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1. (WO2007094436) ACID-DISSOCIATIVE GROUP-CONTAINING COMPOUND AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/094436    International Application No.:    PCT/JP2007/052784
Publication Date: 23.08.2007 International Filing Date: 15.02.2007
IPC:
C07C 43/23 (2006.01), C07C 69/734 (2006.01), C07C 69/96 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048410 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIMIZU, Daisuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAI, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUMURA, Nobuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MARUYAMA, Ken [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIMIZU, Daisuke; (JP).
KAI, Toshiyuki; (JP).
MATSUMURA, Nobuji; (JP).
MARUYAMA, Ken; (JP)
Agent: WATANABE, Kazuhira; 3rd Fl., No.8 Kikuboshi Tower Building 20-18, Asakusabashi 3-chome Taito-ku, Tokyo 111-0053 (JP)
Priority Data:
2006-041205 17.02.2006 JP
2006-295950 31.10.2006 JP
Title (EN) ACID-DISSOCIATIVE GROUP-CONTAINING COMPOUND AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
(FR) COMPOSE CONTENANT UN GROUPE POUVANT ETRE DISSOCIE PAR UN ACIDE ET COMPOSITION PHOTOSENSIBLE
(JA) 酸解離性基含有化合物及び感放射線性組成物
Abstract: front page image
(EN)This invention provides a radiation-sensitive composition that can form a resist film which is effectively sensitive to electron beams or extreme ultraviolet light, is excellent in roughness, etching resistance, and sensitivity, and can form a fine pattern in a highly accurate and stable manner. The radiation-sensitive composition comprises (a) an acid-dissociative group-containing compound for use in resist film formation, obtained by substituting, by an acid-dissociative group, at least one of hydroxyl groups in a precursor compound containing 2 to 5 hydroxyl groups and 2 to 5 aromatic rings and having a weight average molecular weight of 290 to 600 as measured by gel permeation chromatography (GPC) using a polystyrene standard, and (b) a radiation-sensitive acid generator which generates acid upon radiation irradiation.
(FR)La présente invention concerne une composition photosensible qui peut former un film de résist qui est réellement sensible à des faisceaux d'électrons ou à des rayons UV extrêmes, est excellente en terme de rugosité, de résistance à la gravure et de sensibilité et peut former un motif fin de façon très précise et stable. La composition photosensible comprend (a) un composé contenant un groupe pouvant être dissocié par un acide destiné à un usage dans la formation d'un film de résist, obtenu par substitution, par un groupe pouvant être dissocié par un acide, au moins un des groupes hydroxyle du composé précurseur contenant de 2 à 5 groupes hydroxyle et de 2 à 5 cycles aromatiques et ayant une masse moléculaire moyenne pondérale allant de 290 à 600 lorsqu'elle est mesurée par chromatographie par perméation de gel (CPG) utilisant une norme polystyrène, et (b) un générateur d'acide photosensible qui produit un acide lors d'une irradiation par des rayons.
(JA) 電子線または極紫外線に有効に感応し、ラフネス、エッチング耐性、感度に優れ、微細パターンを高精度に、かつ、安定して形成することが可能なレジスト膜を得ることができるものであり、(a)2~5個の水酸基を有し、2~5個の芳香環を有するとともに、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)を用いて測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が290~600である前駆体化合物の前記水酸基の少なくとも一つを酸解離性基に置換した、レジスト膜の形成に用いられる酸解離性基含有化合物と、(b)放射線が照射されることにより酸を発生する感放射線性酸発生剤と、を含有する感放射線性組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)