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1. (WO2007094414) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/094414    International Application No.:    PCT/JP2007/052741
Publication Date: 23.08.2007 International Filing Date: 15.02.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAGASAKA, Hiroyuki; (JP)
Agent: KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2006-039832 16.02.2006 JP
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
Abstract: front page image
(EN)An exposure apparatus (EX) is comprised of a projecting optical system (PL) capable of forming an image of a first pattern (PA1) on a first exposing region (AR1) and an image of a second pattern (PA2) on a second exposing region (AR2), and a first detecting system (10) for seeking at least either of position information of the image of the first pattern (PA1) or position information of the image of the second pattern (PA2). Based on a detecting result, the exposure apparatus adjusts a position relation between the images of the first and second patterns (PA1, PA2) and a prescribed region (S) on the substrate (P), and multi-exposes the prescribed region (S) on the substrate (P) with the images of the first and second patterns (PA1, PA2). The substrate can be efficiently well multi-exposed.
(FR)L'invention concerne un appareil d'exposition (EX) constitué d'un système de projection optique (PL) pouvant former une image d'un premier motif (PA1) sur une première région d'exposition (AR1) et une image d'un second motif (PA2) sur une seconde région d'exposition (AR2), et d'un premier système de détection (10) permettant de rechercher des informations de position de l'image du premier motif (PA1) et/ou des informations de position de l'image du second motif (PA2). En fonction d'un résultat de détection, l'appareil d'exposition ajuste une relation de position entre les images des premier et second motifs (PA1, PA2) et une région prescrite (S) sur le substrat (P), et expose de multiples fois la région prescrite (S) sur le substrat (P) avec les images des premier et second motifs (PA1, PA2). Le substrat peut être bien efficacement exposé de multiples fois.
(JA) 露光装置EXは、第1パターンPA1の像を第1露光領域AR1に形成可能であり、第1パターンPA1と異なる第2パターンPA2の像を第2露光領域AR2に形成可能な投影光学系PLと、第1パターンPA1の像の位置情報、及び第2パターンPA2の像の位置情報の少なくとも一方を求めるための第1検出系10とを備える。検出結果に基づいて、第1及び第2パターンPA1,PA2の像と基板P上の所定領域Sとの位置関係を調整し、第1及び第2パターンPA1,PA2の像で基板P上の所定領域Sを多重露光する。基板を効率良く多重露光できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)