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1. (WO2007094407) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/094407    International Application No.:    PCT/JP2007/052726
Publication Date: 23.08.2007 International Filing Date: 15.02.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAGASAKA, Hiroyuki; (JP)
Agent: KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2006-039227 16.02.2006 JP
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
Abstract: front page image
(EN)An exposure apparatus (EX) is comprised of a projecting optical system (PL) for forming an image of a first pattern on a first exposing region (AR1) and an image of a second pattern on a second exposing region (AR2), an adjusting device for adjusting plane positions between a first image surface (IS1) and a surface of a substrate (P), and ones between a second image surface (IS2) and the surface of the substrate (P), when a shot region on the substrate (P) is multi-exposed with the images of the first and second patterns through the projecting optical system (PL). The substrate can be efficiently well multi-exposed.
(FR)L'appareil d'exposition (EX) selon l'invention comprend un système optique de projection (PL) servant à former une image d'un premier motif sur une première zone d'exposition (AR1) et une image d'un second motif sur une seconde zone d'exposition (AR2), un dispositif d'ajustement servant à ajuster les positions dans le plan entre une première surface d'image (IS1) et une surface d'un substrat (P) et les positions dans le plan entre une seconde surface d'image (IS2) et la surface du substrat (P), lorsqu'une zone frappée du substrat (P) est multi-exposée avec les images des premier et second motifs à travers le système optique de projection (PL). Le substrat peut être correctement et efficacement multi-exposé.
(JA) 露光装置EXは、第1パターンの像を第1露光領域AR1に形成し、第2パターンの像を第2露光領域AR2に形成する投影光学系PLと、投影光学系PLを介して第1パターンの像と第2パターンの像とで基板P上のショット領域を多重露光するときに、第1パターンの像が形成される第1像面IS1と基板P表面との面位置関係、並びに第2パターンの像が形成される第2像面IS2と基板P表面との面位置関係を調整する調整装置とを備えている。基板を良好に効率良く多重露光できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)