WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Machine translation
1. (WO2007094057) OPTICAL DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/094057    International Application No.:    PCT/JP2006/302651
Publication Date: 23.08.2007 International Filing Date: 15.02.2006
G02F 1/01 (2006.01), G02B 6/122 (2006.01)
Applicants: FUJITSU LIMITED [JP/JP]; 1-1, Kamikodanaka 4-chome Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 2118588 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIRAISHI, Takashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANAKA, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYATAKE, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIRAISHI, Takashi; (JP).
TANAKA, Kazuhiro; (JP).
MIYATAKE, Tetsuya; (JP)
Agent: SANADA, Tamotsu; Kichijoji-Hirose Bldg. 5th Floor 10-31, Kichijoji-honcho 1-chome Musashino-shi, Tokyo 1800004 (JP)
Priority Data:
(JA) 光デバイス
Abstract: front page image
(EN)Provided is an optical device which permits a substrate to generate a stress larger than that generated by conventional technologies. The optical device is provided with a substrate (1) having photoelasticity; a first stress layer (2), which is formed on a first plane of the substrate (1) and has a pattern for generating a stress which induces a refraction index change by the photoelasticity in a part of a region in the substrate (1); and a second stress layer (3), which is formed on a second plane, i.e., the rear plane of the first plane, of the substrate (1) and permits the substrate (1) to generate a stress for returning the shape deformed due to the stress generated in the substrate (1) by the first stress layer (2) to the original shape.
(FR)La présente invention concerne un dispositif optique qui permet à un substrat de générer une contrainte supérieure à celle générée par des technologies classiques. Le dispositif optique est muni d'un substrat (1) ayant une photoélasticité ; une première couche de contrainte (2), qui est formée sur un premier plan du substrat (1) et comporte un motif pour générer une contrainte qui induit un changement d'indice de réfraction par la photoélasticité dans une partie d'une région dans le substrat (1) ; et une seconde couche de contrainte (3), qui est formée sur un second plan, c'est-à-dire, le plan arrière du premier plan du substrat (1) et permet à ce dernier (1) de générer une contrainte pour faire revenir la forme déformée à cause de la contrainte générée dans le substrat (1) par la première couche de contrainte (2) à la forme d'origine.
(JA) 本発明は、基板に生じさせる応力を従来技術よりも大きくする光デバイスに関し、このために、本発明の光デバイスは、光弾性効果を有する基板(1)と、基板(1)における第1面に形成されて、基板(1)内の一部領域に該光弾性効果による屈折率変化を誘起する応力を生じさせるパターンを有する第1応力層(2)と、基板(1)における第1面の裏面である第2面に形成されて、第1応力層(2)によって基板(1)に生じる応力に起因した形状変形をもとに戻すような応力を基板(1)に生じさせる第2応力層(3)と、をそなえるように構成する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)