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1. (WO2007093436) OPTICAL INTEGRATOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/093436    International Application No.:    PCT/EP2007/001370
Publication Date: 23.08.2007 International Filing Date: 16.02.2007
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
WOLF, Oliver [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SIEKMANN, Heiko [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KALCHBRENNER, Eva [DE/DE]; (DE) (For US Only).
RENNON, Siegfried [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WANGLER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BRESAN, Andre [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GERHARD, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HAVERKAMP, Nils [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHOLZ, Axel [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHARNWEBER, Ralf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LAYH, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BURKART, Stefan [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: WOLF, Oliver; (DE).
SIEKMANN, Heiko; (DE).
KALCHBRENNER, Eva; (DE).
RENNON, Siegfried; (DE).
WANGLER, Johannes; (DE).
BRESAN, Andre; (DE).
GERHARD, Michael; (DE).
HAVERKAMP, Nils; (DE).
SCHOLZ, Axel; (DE).
SCHARNWEBER, Ralf; (DE).
LAYH, Michael; (DE).
BURKART, Stefan; (DE)
Agent: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Epplestr. 14, 70597 Stuttgart (DE)
Priority Data:
60/774,850 17.02.2006 US
60/804,369 09.06.2006 US
Title (EN) OPTICAL INTEGRATOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) INTÉGRATEUR OPTIQUE POUR UN SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION DE PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(EN)An optical integrator for producing a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a first array of elongated convexly curved first microlenses (112X) that are arranged side by side in a first plane and have first vertex lines (V). The optical integrator further comprises a second array of elongated convexly curved second microlenses (114X; 214X) that are arranged side by side in a second plane and have second vertex lines (V1 to V4). At least one second vertex line or a portion thereof does not coincide, in a projection along an optical axis of the optical integrator, with any one of the first vertex lines (V) or portions thereof.
(FR)L'intégrateur optique selon l'invention servant à produire une pluralité de sources de lumière secondaires dans un système d'éclairage d'un appareil d'exposition de projection microlithographique comprend une première matrice de premières microlentilles (112X) allongées courbées de façon convexe qui sont disposées côte à côte dans un premier plan et comportent de premières lignes de sommet (V). L'intégrateur optique comprend en outre une seconde matrice de secondes microlentilles (114X ; 214X) allongées courbées dans le sens convexe qui sont disposées côte à côte dans un second plan et comportent de secondes lignes de sommet (V1 à V4). Au moins une seconde ligne de sommet ou une de ses parties ne coïncide, dans une projection le long de l'axe optique de l'intégrateur optique, avec aucune des premières lignes de sommet (V) ou de leurs parties.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)