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Pub. No.:    WO/2007/092546    International Application No.:    PCT/US2007/003347
Publication Date: 16.08.2007 International Filing Date: 07.02.2007
G01N 15/02 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (For All Designated States Except US).
WRIGHT, Mark [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: WRIGHT, Mark; (US)
Agent: CHENG, Lie-Yea; MARTINE PENILLA & GENCARELLA, 710 Lakeway Drive #200, Sunnyvale, CA 94538 (US)
Priority Data:
11/350,999 08.02.2006 US
Abstract: front page image
(EN)Broadly speaking, the embodiments of the present invention fill the need by providing an improved chamber particle source identification mechanism. The in-situ chamber particle source identification method and apparatus can greatly shorten the time it takes to identify chamber particle source, which could improve the chamber throughput for production system. The method and apparatus can also be used to test components for particle performance during chamber engineering development stage. In one embodiment, an in- situ chamber particle monitor assembly for a semiconductor processing chamber includes at least one laser light source. The at least one laser light source can scan laser light in a chamber process volume within the processing chamber. The in-situ chamber particle monitor assembly also includes at least one laser light collector. The at least one laser light collector can collect laser light emitted from the at least one laser light source.
(FR)Les modes de réalisation de l'invention consistent à fournir un mécanisme amélioré d'identification de la source de particules dans une chambre. Le procédé et l'appareil d'identification de la source de particules dans la chambre in situ permettent de réduire considérablement le temps requis pour identifier la source de particules dans une chambre, susceptible d'améliorer le rendement de la chambre pour un système de production. Le procédé et l'appareil peuvent également être utilisés pour tester des composants de performance des particules pendant l'étape de mise au point technique des particules. Dans un mode de réalisation, un ensemble de surveillance de particules dans la chambre in-situ pour une chambre de traitement de semi-conducteur comprend au moins une source lumineuse laser. Ladite source lumineuse laser peut balayer la lumière laser dans un volume de traitement de la chambre situé à l'intérieur de la chambre de traitement. L'ensemble de surveillance de particules dans la chambre in-situ comprend également au moins un collecteur de lumière laser. Ledit collecteur de lumière laser peut collecter la lumière laser émise de ladite source lumineuse laser. L'ensemble de surveillance de particules dans la chambre comprend également un analyseur externe à la chambre de traitement qui analyse les signaux représentant la lumière laser collectée par ledit collecteur de lumière laser pour fournir des informations relatives aux particules dans la chambre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)