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1. (WO2007091402) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED BOARD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/091402    International Application No.:    PCT/JP2007/050428
Publication Date: 16.08.2007 International Filing Date: 15.01.2007
IPC:
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H05K 3/00 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (For All Designated States Except US).
FUJIMAKI, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAMIKAWA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: FUJIMAKI, Kazuhiro; (JP).
KAMIKAWA, Hiroshi; (JP)
Agent: HIROTA, Koichi; HIROTA, NAGARE & ASSOCIATES, 4th Floor Shinjuku TR Bldg. 2-2-13, Yoyogi, Shibuya-ku Tokyo 1510053 (JP)
Priority Data:
2006-028324 06.02.2006 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED BOARD
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, FILM PHOTOSENSIBLE, PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF PERMANENT ET CARTE DE CIRCUIT IMPRIME
(JA) 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive composition which is excellent in sensitivity, resolution, electroless gold plating resistance and storage stability by containing a certain polymer compound. This photosensitive composition enables to efficiently form a high-precision permanent pattern (such as a protective film, an interlayer insulating film and a solder resist pattern). Also disclosed are a photosensitive film, a permanent pattern forming method using such a photosensitive film, and a printed board having a permanent pattern formed by such a permanent pattern forming method. Specifically disclosed is a photosensitive composition containing a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an alkali-insoluble thermal crosslinking agent. The binder contains a polymer compound which has an aromatic group optionally containing a heterocycle and an ethylenically unsaturated bond in a side chain.
(FR)La présente invention concerne une composition photosensible qui est excellente en termes de sensibilité, de résolution, de résistance de dorure autocatalytique et de stabilité de stockage du fait qu'elle contienne un certain composé polymère. Cette composition photosensible permet de former efficacement un motif permanent de grande précision (tel qu'un film protecteur, un film isolant de couche intercalaire et un motif de résist de soudure). La présente invention concerne également un film photosensible, un procédé de formation de motif permanent utilisant un tel film photosensible et une carte de circuit imprimé ayant un motif permanent formé au moyen d'un tel procédé de formation de motif permanent. La présente invention concerne plus spécifiquement une composition photosensible contenant un liant, un composé polymérisable, un initiateur de photopolymérisation et un agent de réticulation thermique insoluble dans un alcali. Le liant contient un composé polymère qui possède un groupe aromatique contenant éventuellement un hétérocycle et une liaison éthyléniquement insaturée dans une chaîne latérale.
(JA) 本発明は、所定の高分子化合物を含むことにより、感度、解像度、無電解金メッキ耐性、及び保存安定性に優れ、高精細な永久パターン(保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど)を効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されたプリント基板を提供することを目的とする。  このため、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及びアルカリ不溶性の熱架橋剤を含み、前記バインダーが、側鎖に、ヘテロ環を含んでもよい芳香族基及びエチレン性不飽和結合を有する高分子化合物を含む感光性組成物等を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)