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1. (WO2007087067) REMOTE PLASMA PRE-CLEAN WITH LOW HYDROGEN PRESSURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/087067    International Application No.:    PCT/US2006/049440
Publication Date: 02.08.2007 International Filing Date: 28.12.2006
IPC:
B08B 3/00 (2006.01), H01L 21/302 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US) (For All Designated States Except US).
FU, Xinyu [CN/US]; (US) (For US Only).
FORSTER, John [US/US]; (US) (For US Only).
YU, Jick [US/US]; (US) (For US Only).
BHATNAGAR, Ajay [US/US]; (US) (For US Only).
GOPALRAJA, Praburam [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: FU, Xinyu; (US).
FORSTER, John; (US).
YU, Jick; (US).
BHATNAGAR, Ajay; (US).
GOPALRAJA, Praburam; (US)
Agent: GUENZER, Charles; 2211 Park Boulevard, P.O. Box 60729, Palo Alto, CA 94306 (US)
Priority Data:
11/334,803 17.01.2006 US
Title (EN) REMOTE PLASMA PRE-CLEAN WITH LOW HYDROGEN PRESSURE
(FR) PRE-NETTOYAGE AU PLASMA A DISTANCE AVEC UNE FAIBLE PRESSION EN HYDROGENE
Abstract: front page image
(EN)A plasma cleaning method particularly useful for removing photoresist and oxide residue from a porous low-k dielectric with a high carbon content prior to sputter deposition. A remote plasma source (52) produces a plasma primarily of hydrogen radicals H*. The hydrogen pressure may be kept relatively low, for example, at 30 milliTorr. Optionally, helium may be added to the processing gas with the hydrogen partial pressure held below 150 milliTorr. Superior results are obtained with 70% helium in 400 milliTorr of hydrogen and helium. Preferably, an ion filter, such as a magnetic filter (62, 64), removes hydrogen and other ions from the output of the remote plasma source and a supply tube (54) from the remote plasma source includes a removable dielectric liner (66) in combination with dielectric showerhead (40) and manifold liner (58).
(FR)La présente invention concerne un procédé de nettoyage au plasma particulièrement utile pour éliminer le résidu de photorésist et d’oxyde d’un diélectrique poreux à faible k ayant une teneur élevée en carbone avant le dépôt par pulvérisation. Une source de plasma à distance (52) produit un plasma constitué principalement de radicaux d'hydrogène H*. La pression en hydrogène peut être maintenue relativement basse, par exemple, à 30 milliTorrs. Eventuellement, de l'hélium peut être ajouté au gaz de traitement, la pression partielle en hydrogène étant maintenue en dessous de 150 milliTorrs. De meilleurs résultats sont obtenus avec 70 % d’hélium dans 400 milliTorrs d’hydrogène et d’hélium. De préférence, un filtre d'ions, tel qu'un filtre magnétique (62, 64), retire l’hydrogène et d'autres ions au niveau de la sortie de la source de plasma à distance et un tube d'alimentation (54) provenant de la source de plasma à distance comprend un revêtement diélectrique démontable (66) en combinaison avec un diffuseur d’eau diélectrique (40) et un revêtement du collecteur (58).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)