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1. (WO2007086700) TRAPPING APPARATUS FOR BY-PRODUCT OF SEMICONDUCTOR FABRICATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/086700    International Application No.:    PCT/KR2007/000454
Publication Date: 02.08.2007 International Filing Date: 25.01.2007
IPC:
H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: INOSYSTEM CO., LTD. [KR/KR]; 356-13, BanWol-Dong, Hwasung Si, Kyunggi-do 445-330 (KR) (For All Designated States Except US).
LEE, Seung Ryong [KR/KR]; (KR) (For US Only).
NA, Myung Soo [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: LEE, Seung Ryong; (KR).
NA, Myung Soo; (KR)
Agent: OH, Wi-Hwan; 5th F1., Eunseong Bldg., 601-18, Yeoksma-Dong, Kangnam-Gu, Seoul 135-080 (KR)
Priority Data:
10-2006-0007565 25.01.2006 KR
Title (EN) TRAPPING APPARATUS FOR BY-PRODUCT OF SEMICONDUCTOR FABRICATION
(FR) APPAREIL DE PIÉGEAGE POUR DES SOUS-PRODUITS A SEMI-CONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a trapping apparatus for by-products of a semiconductor fabrication process, capable of promptly trapping the by-products with a maximized trapping space for actually depositing or accumulating reaction by-products therein, while being considerably improved in the trapping efficiency by guaranteeing a progression passage for minimizing passage resistance even with a great amount of the by-products trapped therein. The trapping apparatus comprises a housing having length in a horizontal direction and including an inlet and an outlet, a plurality of temperature variation means mounted in the housing to vary temperature of the by-products flowing into the housing, and a plurality of trapping filters mounted to the outside of the temperature variation means in the housing to form a trapping atmosphere according to the temperature, and including a plurality of vent holes formed on upper and lower surfaces thereof for the gas by-products to pass through.
(FR)L'invention concerne un appareil de piégeage pour des sous-produits à semi-conducteurs, capable de piéger rapidement les sous-produits au moyen d'un espace de piégeage maximisé destiné à déposer ou à accumuler les sous-produits de réaction, tout en améliorant considérablement l'efficacité du piégeage grâce à la garantie d'un passage de progression destiné à minimiser la résistance au passage, même pour une grande quantité de produits intermédiaires piégés. L'appareil de piégeage comprend un logement présentant une longueur dans le sens horizontal et comprenant une entrée et une sortie, une pluralité de moyens de variation de températures montés dans le logement, permettant de modifier la température des sous-produits s'écoulant dans le logement, et une pluralité de filtres de piégeage montés à l'extérieur des moyens de variation de température dans le logement, de manière à former une atmosphère de piégeage en fonction de la température, et comprenant une pluralité d'orifices de ventilation formés sur la surface supérieure et inférieure permettant le passage des produits intermédiaires gazeux.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Korean (KO)