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1. (WO2007086400) METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING SAMPLE SURFACE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/086400    International Application No.:    PCT/JP2007/051047
Publication Date: 02.08.2007 International Filing Date: 24.01.2007
IPC:
H01J 37/29 (2006.01), G01N 23/225 (2006.01), H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/21 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: EBARA CORPORATION [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 1448510 (JP) (For All Designated States Except US).
NOJI, Nobuharu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAITO, Yoshihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SOBUKAWA, Hirosi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TERAO, Kenji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HATAKEYAMA, Masahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OKUMURA, Katsuya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NOJI, Nobuharu; (JP).
NAITO, Yoshihiko; (JP).
SOBUKAWA, Hirosi; (JP).
TERAO, Kenji; (JP).
HATAKEYAMA, Masahiro; (JP).
OKUMURA, Katsuya; (JP)
Agent: SHAMOTO, Ichio; YUASA AND HARA Section 206, New Ohtemachi Bldg. 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000004 (JP)
Priority Data:
2006-016519 25.01.2006 JP
2006-058847 06.03.2006 JP
2006-058862 06.03.2006 JP
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING SAMPLE SURFACE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL PERMETTANT D'INSPECTER LA SURFACE D'UN ÉCHANTILLON
(JA) 試料表面検査方法及び検査装置
Abstract: front page image
(EN)A method and an apparatus for performing highly accurate sample surface inspection are provided. The method is provided for inspecting sample surfaces by using an electron beam type sample surface inspecting apparatus. In the method, the sample surface is irradiated with an electron beam generated from an electron gun of the sample surface inspecting apparatus, a secondary electron generated from the sample surface is focused on the electron detecting surface of a detector, and the sample surface is inspected. The method is characterized in that the focusing conditions of the secondary electron on the detecting surface of the detector are controlled to have a potential on the sample surface change in accordance with the quantity of the electron beam applied on the sample surface.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un appareil qui permettent d'effectuer l'inspection très exacte de la surface d'un échantillon. Le procédé permet d'inspecter des surfaces d'échantillon au moyen d'un appareil d'inspection de surface d'échantillon du type à faisceau d'électrons. Dans le procédé, la surface d'échantillon est irradiée avec un faisceau d'électrons généré par un canon à électrons de l'appareil d'inspection de surface d'échantillon, un électron secondaire généré par la surface d'échantillon étant focalisé sur la surface de détection électronique d'un détecteur et la surface d'échantillon est inspectée. Le procédé se caractérise en ce que les conditions de focalisation de l'électron secondaire sur la surface de détection du détecteur sont commandées de manière à avoir un changement de potentiel sur la surface d'échantillon en fonction de la quantité de faisceau d'électrons appliquée sur la surface d'échantillon.
(JA) 精度の良い試料表面検査を行える方法及び装置を提供する。  電子線式試料表面検査装置を用いて試料表面を検査する方法であって、前記試料表面検査装置の電子銃から発生した電子ビームを前記試料表面に照射し、前記試料表面から発生した二次電子を検出器の電子検出面に向けて結像させ前記試料表面を検査する方法において、前記検出器の検出面における前記二次電子の結像条件を、前記試料表面の電位が前記試料表面に照射された電子ビームの量に応じて変化さるように制御することに特徴を有する                                                                           
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)