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1. (WO2007086211) HYDROXYALKYLATED CHITOSAN SOLUTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/086211    International Application No.:    PCT/JP2006/325237
Publication Date: 02.08.2007 International Filing Date: 19.12.2006
IPC:
C08L 5/08 (2006.01), B05D 7/14 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), C08K 5/09 (2006.01), C09D 105/08 (2006.01)
Applicants: DAINICHISEIKA COLOR & CHEMICALS MFG. CO., LTD. [JP/JP]; 7-6, Nihonbashi Bakuro-cho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038383 (JP) (For All Designated States Except US).
TSUCHIDA, Shinya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOBAYASHI, Nobuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SANNAN, Takanori [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TSUCHIDA, Shinya; (JP).
KOBAYASHI, Nobuyuki; (JP).
SANNAN, Takanori; (JP)
Agent: KONDO, Rieko; Mitobe Building, 5th Floor 1-13-1 Kandaizumi-cho Chiyoda-ku, Tokyo 1010024 (JP)
Priority Data:
2006-016554 25.01.2006 JP
2006-213775 04.08.2006 JP
Title (EN) HYDROXYALKYLATED CHITOSAN SOLUTION
(FR) SOLUTION DE CHITOSAN HYDROXYALKYLE
(JA) ヒドロキシアルキル化キトサン溶液
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a hydroxyalkylated chitosan solution characterized by containing a hydroxylated chitosan and an organic acid or a derivative thereof in an aprotic polar solvent. Also disclosed is a method for coating a base characterized by comprising a step wherein the hydroxyalkylated chitosan solution is applied over the surface of a base, and another step wherein the thus-obtained base is heated at a temperature of not less than 100˚C for not less than one second. Consequently, there is provided a one-component chitosan derivative solution suitable for application to a hydrophobic or lipophilic surface, which is stable and not crosslinkable at room temperature. This chitosan derivative solution forms a chitosan coating film having excellent water resistance after being heated and dried. Also provided is a method for coating a base wherein such a solution is used.
(FR)L’invention concerne une solution de chitosan hydroxyalkylé caractérisé en ce qu’elle contient un chitosan hydroxylé et un acide organique ou un de ses dérivés dans un solvant aprotique polaire. L’invention concerne également un procédé de revêtement d’une base caractérisé en ce qu’il comprend une étape lors de laquelle la solution de chitosan hydroxyalkylé est appliquée sur la surface d’une base, ainsi qu’une autre étape lors de laquelle la base ainsi obtenue est portée à une température supérieure ou égale à 100 °C pendant au moins une seconde. L’invention concerne donc une solution à un composant de dérivé de chitosan convenant à une application sur une surface hydrophobe ou lipophile, ladite solution étant stable et non réticulable à température ambiante. Cette solution de dérivé de chitosan forme un film de revêtement à base de chitosan présentant une excellente résistance à l’eau après chauffage et séchage. L’invention concerne également un procédé de revêtement d’une base selon lequel une telle solution est utilisée.
(JA) 本発明は、非プロトン性極性溶媒中にヒドロキシアルキル化キトサンと有機酸またはその誘導体とを含むことを特徴とするヒドロキシアルキル化キトサン溶液である。また、本発明は、上記ヒドロキシアルキル化キトサン溶液を基材の表面に付着させる工程、および該工程で得られた基材を100°C以上で1秒間以上加熱する工程を包含することを特徴とする基材の被覆方法である。上記本発明によれば、常温では架橋せず安定であり、加熱乾燥後は耐水性に優れたキトサン被膜を形成し得る、一液タイプの疎水性または親油性表面の塗布に適したキトサン誘導体の溶液および該溶液を用いた基材の被覆方法を提供することができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)