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Pub. No.:    WO/2007/086114    International Application No.:    PCT/JP2006/301139
Publication Date: 02.08.2007 International Filing Date: 25.01.2006
Chapter 2 Demand Filed:    21.11.2007    
B04B 1/02 (2006.01), B04B 9/12 (2006.01)
Applicants: TOMOE ENGINEERING CO., LTD. [JP/JP]; Art Village Osaki Central Tower 2-2, Osaki 1-chome Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP) (For All Designated States Except US).
OHASHI, Jun [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FENG, Qunce [CA/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OHASHI, Jun; (JP).
FENG, Qunce; (JP)
Agent: SASAI, Hiroki; Kiyoken Bldg. YOKOHAMA-JUST 12-6, Takashima 2-chome Nishi-ku, Yokohama-shi Kanagawa 2200011 (JP)
Priority Data:
(JA) 竪型遠心分離機
Abstract: front page image
(EN)A vertical centrifugal machine having a contactless runout suppression mechanism, where contamination seen in conventional vertical centrifugal machines and occurring by abrasion powder, such as copper powder, from a lower bronze sleeve bearing of a rotating cylinder is eliminated. The rotating cylinder (20) rotating at high speed about a vertical axis is supported at a frame, liquid to be treated is supplied into the rotating cylinder (20), and solid objects are separated by centrifugal force. A lower bearing (40) for suppressing runout of the rotating cylinder (20) is provided at the lower part of the frame (70). The lower bearing (40) is a contactless active type bearing having a pair of electromagnets that are arranged opposite to each other on the stationary side of an outer ring. Attraction force of the pair of opposite electromagnets attracts an inner ring rotating shaft (43) provided at the lower part of the rotating cylinder (20). The attraction force balances with external force acting on the inner ring rotating shaft (43) to cause the inner ring rotating shaft to float in air.
(FR)L'invention concerne une centrifugeuse verticale ayant un mécanisme de suppression de déviation sans contact, la contamination constatée dans des centrifugeuses verticales conventionnelles et produite par une poudre abrasive, telle qu'une poudre de cuivre, à partir d'un palier à douille inférieur en bronze d'un cylindre rotatif, étant éliminée. Le cylindre rotatif (20) tournant à grande vitesse autour d'un axe vertical est soutenu au niveau d'un cadre, un liquide à traiter est alimenté dans le cylindre rotatif (20), et des objets solides sont séparés par une force centrifuge. Un palier inférieur (40) pour supprimer la déviation du cylindre rotatif (20) est disposé au niveau de la partie inférieure du cadre (70). Le palier inférieur (40) est un palier de type actif sans contact ayant une paire d'électroaimants qui sont agencés en opposition l'un à l'autre sur le côté immobile d'un anneau externe. La force d'attraction de la paire d'électroaimants opposés attire un arbre de rotation d'anneau interne (43) disposé au niveau de la partie inférieure du cylindre rotatif (20). La force d'attraction s'équilibre avec une force externe agissant sur l'arbre de rotation d'anneau interne (43) pour amener l'arbre rotatif d'anneau interne à flotter dans l'air.
(JA) 従来の竪型遠心分離機の回転筒の下部軸受ブロンズスリーブベアリングによる銅粉等の磨耗粉による機内の汚染を無くすために、非接触型の振れ抑制機構を持つ竪型遠心分離機である。垂直軸回りに高速回転する回転筒(20)をフレームに支持し、該回転筒(20)内に処理液を供給して遠心力により固形物を分離するようにした竪型遠心分離機であり、フレーム(70)の下部には回転筒(20)の振れを抑制させる下部軸受(40)が設けられており、該下部軸受(40)は、外輪静止側に対抗する2組1対の電磁石を設け、該対抗する2組1対の電磁石吸引力によって前記回転筒(20)下部に設けられた内輪回転軸(43)を吸引させ、内輪回転軸(43)に作用する外力とのバランスを保ち内輪回転軸(43)を空中に浮かせる非接触の能動型として磁気動作するようにした。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)