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1. (WO2007081054) METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING HYDROGEN PEROXIDE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/081054    International Application No.:    PCT/JP2007/050642
Publication Date: 19.07.2007 International Filing Date: 11.01.2007
IPC:
C02F 1/58 (2006.01), B01D 19/00 (2006.01), B01D 61/00 (2006.01), B01J 31/08 (2006.01), B01J 35/02 (2006.01), C02F 1/20 (2006.01)
Applicants: KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 4-7, Nishi-Shinjuku 3-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1608383 (JP) (For All Designated States Except US).
KOBAYASHI, Hideki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KOBAYASHI, Hideki; (JP)
Agent: UCHIYAMA, Mitsuru; TSI Sudacho Building 8F 4-1, Kandasudacho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010041 (JP)
Priority Data:
2006-004844 12.01.2006 JP
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING HYDROGEN PEROXIDE
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE SUPPRESSION DU PEROXYDE D’HYDROGENE
(JA) 過酸化水素の除去方法及び除去装置
Abstract: front page image
(EN)A method of removing hydrogen peroxide from water, characterized by bringing hydrogen peroxide-containing raw water into contact with a hydrogen peroxide decomposition catalyst which comprises a support and, deposited thereon, nanocolloidal particles of a platinum-group metal having an average particle diameter of 1-50 nm. Also provided is an apparatus for removing hydrogen peroxide, characterized by comprising: a hydrogen peroxide decomposer packed with a catalyst which comprises a support and, deposited thereon, nanocolloidal particles of a platinum-group metal having an average particle diameter of 1-50 nm; a water supply means for supplying hydrogen peroxide-containing raw water to the decomposer; and a drainage means for discharging from the decomposer the water which has been contacted with the catalyst. By the method and apparatus, hydrogen peroxide contained in raw water can be rapidly removed without fail. They are suitable for removing hydrogen peroxide from ultrapure water in an apparatus for ultrapure water production which is used especially in an industry where electronic materials such as semiconductors and liquid crystals are handled.
(FR)La présente invention concerne un procédé de suppression du peroxyde d’hydrogène de l’eau, caractérisé en ce qu’il consiste à amener de l’eau brute contenant du peroxyde d’hydrogène en contact avec un catalyseur de décomposition du peroxyde d’hydrogène qui comprend un support et, déposées sur celui-ci, des particules nanocolloïdales d’un métal du groupe du platine présentant un diamètre moyen des particules de 1-50 nm. La présente invention concerne également un appareil de suppression du peroxyde d’hydrogène, caractérisé en qu’il comprend : un agent de décomposition du peroxyde d’hydrogène garni d’un catalyseur qui comprend un support et, déposées sur celui-ci, des particules nanocolloïdales d’un métal du groupe du platine présentant un diamètre moyen des particules de 1-50 nm ; un moyen d’alimentation en eau destiné à alimenter en eau brute contenant du peroxyde d’hydrogène l’agent de décomposition ; et un moyen de drainage destiné à évacuer de l’agent de décomposition l’eau qui a été en contact avec le catalyseur. Grâce auxdits procédé et appareil, il est possible de supprimer rapidement et sans risque d’échec le peroxyde d’hydrogène contenu dans l’eau brute. Ceux-ci sont appropriés pour la suppression de peroxyde d’hydrogène d’eau ultra-pure dans des appareils de production d’eau ultra-pure particulièrement employés dans un secteur où les matériaux électroniques tels que les semiconducteurs et les cristaux liquides sont manipulés.
(JA)過酸化水素を含む被処理水を、平均粒子径1~50nmである白金族の金属ナノコロイド粒子を担体に担持させた過酸化水素分解触媒に接触させることを特徴とする水中の過酸化水素の除去方法、及び、平均粒子径1~50nmである白金族の金属ナノコロイド粒子を担体に担持させた触媒を充填した過酸化水素分解装置と、過酸化水素を含む被処理水を該装置に供給する給水手段と、該触媒と接触した水を該装置から排出する排水手段とを有することを特徴とする過酸化水素の除去装置。被処理水中の過酸化水素を迅速かつ確実に除去することができ、特に半導体、液晶などの電子材料を扱う産業において用いられる超純水製造装置における超純水中の過酸化水素の除去に適している。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)