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1. (WO2007080120) CRUCIBLE FOR THE TREATMENT OF MOLTEN SILICON
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2007/080120 International Application No.: PCT/EP2007/000254
Publication Date: 19.07.2007 International Filing Date: 12.01.2007
IPC:
C30B 11/00 (2006.01) ,C30B 15/10 (2006.01)
Applicants: RANCOULE, Gilbert[FR/FR]; FR (UsOnly)
VESUVIUS CRUCIBLE COMPANY[US/US]; 103 Foulk Road Wilmington, DE 19803, US (AllExceptUS)
Inventors: RANCOULE, Gilbert; FR
Agent: DEBLED, Thierry; Vesuvius Group S.A. Intellectual Property Department Rue de Douvrain 17 B-7011 Ghlin, BE
Priority Data:
06 447 007.312.01.2006EP
Title (EN) CRUCIBLE FOR THE TREATMENT OF MOLTEN SILICON
(FR) CREUSET POUR LE TRAITEMENT DE SILICIUM FONDU
Abstract:
(EN) The invention relates to a crucible for the treatment of molten silicon comprising a basic body with a bottom surface and lateral walls defining an inner volume. According to the invention, the basic body comprises at least 65% by weight of silicon carbide, from 12 to 30 % by weight of a constituent selected from silicon oxide or nitride. Moreover, the basic body comprises at least one silicon oxide and/or nitride coating, at least on the surfaces defining the inner volume of the crucible contrarily to the state of the art crucibles, such a crucible can be used several times without any visible degradation of its physical integrity.
(FR) L’invention concerne un creuset destiné au traitement de silicium fondu comprenant un corps de base avec une surface inférieure et des parois latérales définissant un volume intérieur. Selon l’invention, le corps de base comprend au moins 65 % en poids de carbure de silicium, et de 12 à 30 % en poids d’un constituant choisi parmi le nitrure ou l’oxyde de silicium. Le corps de base comprend également au moins un revêtement en nitrure et/ou oxyde de silicium, au moins sur les surfaces définissant le volume interne du creuset. Contrairement aux creusets de l'état de la technique, un tel creuset peut être utilisé plusieurs fois sans aucune dégradation visible de son intégrité physique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)