WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2007078572) APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING PLASMA DENSITY PROFILE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/078572    International Application No.:    PCT/US2006/046780
Publication Date: 12.07.2007 International Filing Date: 08.12.2006
IPC:
H01L 21/683 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (For All Designated States Except US).
DHINDSA, Rajinder [US/US]; (US) (For US Only).
KOZAKEVICH, Felix [US/US]; (US) (For US Only).
LI, Lumin [US/US]; (US) (For US Only).
TRUSSELL, Dave [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: DHINDSA, Rajinder; (US).
KOZAKEVICH, Felix; (US).
LI, Lumin; (US).
TRUSSELL, Dave; (US)
Agent: WRIGHT, Kenneth, D.; Martine Penilla & Gencarella, LLP, 710 Lakeway Drive, Suite 200, Sunnyvale, CA 94085 (US)
Priority Data:
11/303,729 16.12.2005 US
Title (EN) APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING PLASMA DENSITY PROFILE
(FR) APPAREIL ET PROCEDE PERMETTANT DE CONTROLER LE PROFIL DE DENSITE DU PLASMA
Abstract: front page image
(EN)A number of RF power transmission paths are defined to extend from an RF power source through a matching network, through a transmit electrode, through a plasma to a number of return electrodes. A number of tuning elements are respectively disposed within the number of RF power transmission paths. Each tuning element is defined to adjust an amount of RF power to be transmitted through the RF power transmission path within which the tuning element is disposed. A plasma density within a vicinity of a particular RF power transmission path is directly proportional to the amount of RF power transmitted through the particular RF power transmission path. Therefore, adjustment of RF power transmitted through the RF power transmission paths, as afforded by the tuning element, enables control of a plasma density profile across a substrate.
(FR)Plusieurs voies de transmission de puissance RF sont conçues pour relier une source de puissance RF à plusieurs électrodes de retour par l'intermédiaire d'un réseau d'adaptation, d'une électrode de transmission et d'un plasma. Plusieurs éléments d'accord sont disposés respectivement dans les voies de transmission de puissance RF. Chacun de ces éléments d'accord permet d'ajuster la quantité de puissance RF à transmettre par la voie de transmission RF dans laquelle l'élément d'accord est disposé. La densité du plasma au voisinage d'une voie de transmission de puissance RF particulière est directement proportionnelle à la quantité de puissance RF transmise par la voie de transmission de puissance RF particulière. Ainsi, l'ajustement de la puissance RF transmise par les voies de transmission de puissance RF, obtenu à l'aide de l'élément d'accord, permet de contrôler le profil de densité du plasma à la surface d'un substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)