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1. (WO2007078556) ROTATABLE APERTURE MASK ASSEMBLY AND DEPOSITION SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2007/078556 International Application No.: PCT/US2006/046683
Publication Date: 12.07.2007 International Filing Date: 07.12.2006
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,C23C 16/04 (2006.01)
Applicants: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY[US/US]; 3M Center Post Office Box 33427 Saint Paul, Minnesota 55133-3427, US (AllExceptUS)
Inventors: TOKIE, Jeffrey H.; US
MCCLURE, Donald J.; US
Agent: EINERSON, Nicole J. ; 3M Center Office of Intellectual Property Counsel Post Office Box 33427 Saint Paul, Minnesota 55133-3427, US
Priority Data:
11/275,35428.12.2005US
Title (EN) ROTATABLE APERTURE MASK ASSEMBLY AND DEPOSITION SYSTEM
(FR) ENSEMBLE MASQUE ROTATIF A ORIFICES ET SYSTEME DE DEPOT
Abstract: front page image
(EN) An aperture mask assembly includes a rotatable frame and a mask having apertures. A clamping arrangement is used to tension the mask and to conform the mask to a shape defined by the frame. Tension is applied to the mask in a direction substantially parallel to an axis of the frame and/or around the circumference of the shape defined by the frame. Deposition material emanating from a deposition source located within the rotatable frame is deposited through the mask apertures onto a web.
(FR) Ensemble masque à orifices comprenant un cadre rotatif et un masque doté d'orifices. Un dispositif de serrage est utilisé pour tendre le masque et lui faire épouser une forme définie par le cadre. Une tension est appliquée au masque dans une direction sensiblement parallèle à un axe du cadre et / ou autour de la circonférence de la forme définie par le cadre. Un matériau à déposer émanant d'une source de dépôt située à l'intérieur du cadre rotatif est déposé à travers les orifices du masque sur une toile.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)