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1. (WO2007076922) CLEANING OF SAWN SILICON SHEETS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/076922    International Application No.:    PCT/EP2006/012098
Publication Date: 12.07.2007 International Filing Date: 15.12.2006
Chapter 2 Demand Filed:    19.07.2007    
IPC:
C11D 1/72 (2006.01), C11D 1/722 (2006.01), C11D 3/20 (2006.01), C11D 3/36 (2006.01), C11D 3/37 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: HENKEL KOMMANDITGESELLSCHAFT AUF AKTIEN [DE/DE]; Henkelstr. 67, 40589 Düsseldorf (DE) (For All Designated States Except US).
SERVE, Wilfried [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MOLZ, Thomas [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: SERVE, Wilfried; (DE).
MOLZ, Thomas; (DE)
Priority Data:
10 2006 000 882.0 04.01.2006 DE
Title (DE) REINIGUNG GESÄGTER SILICIUMSCHEIBEN
(EN) CLEANING OF SAWN SILICON SHEETS
(FR) NETTOYAGE DE PLAQUETTES DE SILICIUM SCIÉES
Abstract: front page image
(DE)Verfahren zur Reinigung gesägter Siliciumscheiben, wobei man die Siliciumscheiben mit einer wässrigen, alkalischen Reinigungslösung in Kontakt bringt, die Tenside und Komplexbildner enthält, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungslösung mindestens enthält: a) Komplexbilder ausgewählt aus der Gruppe der organischen Phosphonsäuren mit mindestens zwei Phosphonsäuregruppen im Molekül oder deren Salzen, b) Polymer oder Copolymer aus einer oder mehreren olefinisch ungesättigten Carbonsäuren oder deren Salzen oder Estern, c) nichtionisches Tensid ausgewählt aus der Gruppe der Ethoxylate, Propoxylate und Ethoxylate/Propoxylate von Alkylalkoholen oder Alkylaminen mit 8 bis 22 C-Atomen in der Alkylgruppe, die insgesamt nicht mehr Ethoxy- und/oder Propoxy-Gruppen aufweisen, als C-Atome in der Alkylgruppe vorhanden sind; Alkalische wässrige Reinigungslösung, enthaltend: a) mindestens einen Komplexbilder ausgewählt aus der Gruppe der organischen Phosphonsäuren mit mindestens zwei Phosphonsäuregruppen im Molekül oder deren Salzen, b) mindestens ein Polymer oder Copolymer aus einer oder mehreren olefinisch ungesättigten Carbonsäuren oder deren Salzen oder Estern, d ) mindestens ein Ethoxylat eines Alkylalkohols mit 8 bis 12 C-Atomen im Alkylrest und 1 bis 5 Ethoxygruppen, c2) mindestens ein Ethoxylat/Propoxylat eines Alkylalkohols mit 8 bis 18 C-Atomen, vorzugsweise mit 10 bis 16 C-Atomen im Alkylrest und mit 1 bis 4 Ethoxygruppen und 2 bis 8 Propoxygruppen; wässriges Konzentrat in einer oder mehreren Fraktionen zur Herstellung einer entsprechenden Reinigungslösung.
(EN)Process for cleaning sawn silicon sheets, wherein the silicon sheets are contacted with an aqueous alkaline cleaning solution which comprises surfactants and complexing agents, characterized in that the cleaning solution comprises at least: a) complexing agents selected from the group of the organic phosphonic acids having at least two phosphonic acid groups in the molecule or salts thereof, b) polymer or copolymer of one or more olefinically unsaturated carboxylic acids or their salts or esters, c) nonionic surfactant selected from the group of the ethoxylates, propoxylates and ethoxylates/propoxylates of alkyl alcohols or alkylamines having from 8 to 22 carbon atoms in the alkyl group, which, in total, do not have more ethoxy and/or propoxy groups than the number of carbon atoms present in the alkyl group; alkaline aqueous cleaning solution comprising: a) at least one complexing agent selected from the group of the organic phosphonic acids having at least two phosphonic acid groups in the molecule or salts thereof, b) at least one polymer or copolymer of one or more olefinically unsaturated carboxylic acids or their salts or esters, d) at least one ethoxylate of an alkyl alcohol having from 8 to 12 carbon atoms in the alkyl radical and from 1 to 5 ethoxy groups, c2) at least one ethoxylate/propoxylate of an alkyl alcohol having from 8 to 18 carbon atoms, preferably having from 10 to 16 carbon atoms, in the alkyl radical, and having from 1 to 4 ethoxy groups and from 2 to 8 propoxy groups; aqueous concentrate in one or more fractions for preparing a corresponding cleaning solution.
(FR)L'invention concerne un procédé de nettoyage de plaquettes de silicium sciées, ledit procédé consistant à mettre les plaquettes de silicium en contact avec une solution de nettoyage aqueuse alcaline, ladite solution contenant des tensioactifs et des agents complexants. Ce procédé est caractérisé en ce que la solution de purification contient au moins : a) un agent complexant choisi parmi les acides phosphoniques organiques comportant au moins deux groupements acide phosphonique par molécule ou leurs sels, b) un polymère ou un copolymère issu d'un ou de plusieurs acides carboxyliques oléfiniquement insaturés ou leurs sels ou esters, c) un tensioactif non ionique choisi parmi les éthoxylates, les propoxylates et des éthoxylates/propoxylates d'alcools alkyliques ou d'amines alkyliques comportant de 8 à 22 atomes de carbone dans le groupement alkyle, ledit tensioactif ne comportant au total pas plus de groupements éthoxy et/ou propoxy que d'atomes de carbone dans le groupement alkyle. L'invention concerne également une solution de nettoyage aqueuse alcaline comprenant : a) au moins un agent complexant choisi parmi les acides phosphoniques organiques comportant au moins deux groupements acide phosphonique par molécule ou leurs sels, b) au moins un polymère ou un copolymère issu d'un ou de plusieurs acides carboxyliques oléfiniquement insaturés ou leurs sels ou esters, d) au moins un éthoxylate d'un alcool alkylique comportant de 8 à 12 atomes de carbone dans le radical alkyle et de 1 à 5 groupements éthoxy, c2) au moins un éthoxylate/propoxylate d'un alcool alkylique comportant de 8 à 18 atomes de carbone, de préférence de 10 à 16 atomes de carbone, dans le radical alkyle, de 1 à 4 groupements éthoxy et de 2 à 8 groupements propoxy. L'invention concerne également un concentré aqueux en une ou plusieurs fractions destiné à la fabrication de ladite solution de nettoyage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)