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1. (WO2007075082) INSPECTION APPARATUS, LITHOGRAPHIC SYSTEM PROVIDED WITH THE INSPECTION APPARATUS AND A METHOD FOR INSPECTING A SAMPLE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/075082    International Application No.:    PCT/NL2006/000605
Publication Date: 05.07.2007 International Filing Date: 01.12.2006
IPC:
G03F 1/00 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (For All Designated States Except US).
BROUWER, Egbert, Anne, Martijn [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN BRUG, Hedser [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: BROUWER, Egbert, Anne, Martijn; (NL).
VAN BRUG, Hedser; (NL)
Agent: VAN LOON, C., J., J.; Johan De Wittlaan 7, NL-2517 JR Den Haag (NL)
Priority Data:
11/317,243 27.12.2005 US
Title (EN) INSPECTION APPARATUS, LITHOGRAPHIC SYSTEM PROVIDED WITH THE INSPECTION APPARATUS AND A METHOD FOR INSPECTING A SAMPLE
(FR) APPAREIL D’INSPECTION, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE COMPORTANT L’APPAREIL D’INSPECTION ET PROCÉDÉ D’INSPECTION D’UN ÉCHANTILLON
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to an inspection apparatus and a method for inspecting a sample (e.g. a lithographic patterning device or mask) for anomalies e.g. contamination particles or defects, wherein said apparatus comprises: a support structure for supporting the sample, and; a radiation system constructed and arranged for radiating a sample with a radiation beam; and, a detection system constructed and arranged to detect radiation that is reflected from the sample with a detector, wherein the radiation and detection system are provided with a first and second polarizer respectively.
(FR)L’invention concerne un appareil d’inspection et un procédé servant à inspecter un échantillon (par ex. un dispositif de traçage de motif ou un masque pour lithographie) pour déterminer la présence ou l’absence d’anomalies, par ex. des particules de contamination ou des défauts, ledit appareil comprenant : une structure de support servant à supporter l’échantillon et ; un système de rayonnement construit et disposé pour irradier l’échantillon avec un faisceau de rayonnement ; et un système de détection construit et disposé pour détecter le rayonnement qui est réfléchi par l’échantillon avec un détecteur, les systèmes de rayonnement et de détection comportant respectivement un premier et un second polariseurs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)