(EN) An optical device and a method of forming the same is described. The optical waveguide includes a substrate, an etch-stop layer adjacent to the substrate, a barrier layer adjacent to the etch-stop layer, and an active waveguide having a lower cladding layer adjacent to the barrier layer. Also described is a method of coupling to at least one active waveguide. The method includes etching an active waveguide with a high selectivity towards a crystallographic plane to form a sloped terminice with respect to a substrate upon which the active waveguide is formed, and depositing at least one other waveguide over the etched sloped terminice and at least a portion of the substrate, wherein the at least one other waveguide is photonically coupled to the etched active waveguide to provide photonic interconnectivity for the etched active waveguide.
(FR) L'invention porte sur un dispositif optique et sur un procédé de formation dudit dispositif. Le guide d'onde optique comprend un substrat, une couche d'arrêt à la gravure adjacente au substrat, une couche formant barrière adjacente à la couche d'arrêt à la gravure, et un guide d'onde actif possédant une couche de revêtement inférieure adjacente à la couche formant barrière. L'invention porte également sur un procédé de couplage à au moins un guide d'onde actif. Le procédé consiste à graver un guide d'onde actif, présentant une sélectivité élevée, en direction d'un plan cristallographique pour former une paroi latérale inclinée par rapport à un substrat sur lequel est formé le guide d'onde actif ; et à déposer au moins un autre guide d'onde sur la paroi latérale gravée et sur au moins une partie du substrat, ledit guide d'onde étant couplé phoniquement au guide d'onde actif gravé de manière à fournir une interconnectivité phonique au guide d'onde actif gravé.