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1. (WO2007028596) CHARGED PARTICLE INSPECTION METHOD AND CHARGED PARTICLE SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2007/028596 International Application No.: PCT/EP2006/008694
Publication Date: 15.03.2007 International Filing Date: 06.09.2006
IPC:
H01J 37/04 (2006.01) ,H01J 37/09 (2006.01) ,H01J 37/26 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
09
Diaphragms; Shields associated with electron- or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26
Electron or ion microscopes; Electron- or ion-diffraction tubes
Applicants:
CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD. [IL/IL]; 9 Oppenheimer Street 76705 Rehovot, IL (AllExceptUS)
KEMEN, Thomas [DE/DE]; DE (UsOnly)
KNIPPELMEYER, Rainer [DE/DE]; DE (UsOnly)
SCHUBERT, Stefan [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventors:
KEMEN, Thomas; DE
KNIPPELMEYER, Rainer; DE
SCHUBERT, Stefan; DE
Agent:
SCHORR, Frank ; Augustenstrasse 46 80333 München, DE
Priority Data:
60/714,55606.09.2005US
Title (EN) CHARGED PARTICLE INSPECTION METHOD AND CHARGED PARTICLE SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ D’EXAMEN DE PARTICULES CHARGÉES ET SYSTÈME À PARTICULES CHARGÉES
Abstract:
(EN) The present invention relates to a charged particle system comprising: a charged particle source; a first multi aperture plate; a second multi aperture plate disposed downstream of the first multi aperture plate, a controller configured to selectively apply at least first and second voltage differences between the first and second multi aperture plates, wherein the charged particle source and the first and second multi aperture plates are arranged such that each of a plurality of charged particle beamlets traverses an aperture pair, said aperture pair comprising one aperture of the first multi aperture plate and one aperture of the second multi aperture plate, wherein plural aperture pairs are arranged such that a center of the aperture of the first multi aperture plate is, when seen in a direction of incidence of the charged particle beamlet traversing the aperture of the first multi aperture plate, displaced relative to a center of the aperture of the second multi aperture plate. The invention further pertains to a a particle-optical component configured to change a divergence of a set of charged particle beamlets and a charged particle inspection method comprising inspection of an object using different numbers of charged particle beamlets.
(FR) La présente invention concerne un système à particules chargées comprenant : une source de particules chargées ; une première plaque à ouvertures multiples ; une seconde plaque à ouvertures multiples disposée en aval de la première plaque à ouvertures multiples, un contrôleur configuré pour appliquer de manière sélective au moins des différences de première tension et de seconde tension entre la première plaque à ouvertures multiples et la seconde plaque à ouvertures multiples, la source de particules chargées de même que la première plaque à ouvertures multiples et la seconde plaque à ouvertures multiples étant disposées de telle sorte que chacun d’une pluralité de petits faisceaux de particules chargées traverse une paire d’ouvertures, ladite paire d’ouvertures comprenant une ouverture de la première plaque à ouvertures multiples et une ouverture de la seconde plaque à ouvertures multiples, plusieurs paires d’ouvertures étant disposées de telle sorte qu’un centre de l’ouverture de la première plaque à ouvertures multiples soit, vu dans une direction d’incidence du petit faisceau de particules chargées traversant l’ouverture de la première plaque à ouvertures multiples, déplacé par rapport à un centre de l’ouverture de la seconde plaque à ouvertures multiples. L’invention concerne en outre un composant optique à particules configuré pour modifier la divergence d’un ensemble de petits faisceaux de particules chargées et un procédé d’examen de particules chargées comprenant l’examen d’un objet en utilisant différents nombres de petits faisceaux de particules chargées.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
EP2267752EP1943661JP2009507352US20090256075