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1. (WO2007019991) LASER MARK FORMED INSIDE TRANSPARENT BODIES NEAR THE SURFACE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/019991    International Application No.:    PCT/EP2006/007851
Publication Date: 22.02.2007 International Filing Date: 09.08.2006
IPC:
C03C 17/34 (2006.01), C03C 23/00 (2006.01), B41M 5/26 (2006.01)
Applicants: OC OERLIKON BALZERS AG [LI/LI]; Iramali 18, L-9496 Balzers (LI) (For All Designated States Except US).
SMOLE, Philipp [AT/CH]; (CH) (For US Only).
LANKER, Michael [CH/CH]; (CH) (For US Only).
HEINE-KEMPKENS, Claus [DE/CH]; (CH) (For US Only)
Inventors: SMOLE, Philipp; (CH).
LANKER, Michael; (CH).
HEINE-KEMPKENS, Claus; (CH)
Agent: KEMPKENS, Anke; Vordere Mühlgasse 187, 86899 Landsberg a. Lech (DE)
Priority Data:
10 2005 039 430.2 18.08.2005 DE
Title (DE) LASERMARKIERUNG NAHE DER OBERFLÄCHE BEI INNENBEARBEITETEN TRANSPARENTEN KÖRPERN
(EN) LASER MARK FORMED INSIDE TRANSPARENT BODIES NEAR THE SURFACE
(FR) REPERE LASER PRATIQUE DANS DES CORPS USINES A L'INTERIEUR, A PROXIMITE DE LA SURFACE
Abstract: front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer unter der Oberfläche liegenden Markierung in einem transparenten Körper. Erfindungsgemäß wird die Markierung weniger als 500µm unterhalb der Oberfläche dadurch erzielt, dass ein auf die Substratoberfläche aufgebrachtes Schichtsystem mit gegenüber dem Substrat erhöhter Zerstörschwelle aufgebracht wird. Wird das Schichtsystem als für die Auslesewellenlänge reflexminderndes Schichtsystem ausgebildet, so erhöht sich der Kontrast beim Auslesen. Wird das Schichtsystem für die Schreibwellenlänge als Spiegel ausgebildet so kann in Reflexion mit verminderter Intensität geschrieben werden.
(EN)The invention relates to a method for producing a mark in a transparent body under the surface thereof. According to said invention, the mark is located at least at 500µm below the surface because a layer system, whose destruction threshold is greater than that of a substrate, is applied to a substrate surface. When the layer system is embodied in the form of a readout wavelength antireflection layer system, a contrast is increased during reading. The embodiment of the layer system in the form of a writing wavelength mirror makes it possible to write with reduced intensity reflection.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de produire, dans un corps transparent, un repère situé en dessous de la surface. Selon l'invention, le repère se situe à moins de 500 $g(m)m en dessous de la surface, du fait qu'un système lamellaire est appliqué sur la surface du substrat et présente un seuil de destruction augmenté par rapport à celui du substrat. Si le système lamellaire est conçu sous forme de système lamellaire antireflet pour la longueur d'ondes de lecture, le contraste augmente lors de la lecture. Si le système lamellaire est conçu sous forme de miroir pour la longueur d'ondes d'écriture, il est possible d'écrire avec une intensité réduite en réflexion.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)