WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2007019886) OPTICAL SYSTEM, NAMELY OBJECTIVE OR ILLUMINATION DEVICE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/019886    International Application No.:    PCT/EP2005/055888
Publication Date: 22.02.2007 International Filing Date: 10.11.2005
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Str. 22, D-73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Str. 22, D-73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
KRÄHMER, Daniel [DE/DE]; (DE) (For US Only).
TOTZECK, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KLEEMANN, Bernd [DE/DE]; (DE) (For US Only).
RUOFF, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: KRÄHMER, Daniel; (DE).
TOTZECK, Michael; (DE).
KLEEMANN, Bernd; (DE).
RUOFF, Johannes; (DE)
Agent: SCHULTZ, Joerg; Carl Zeiss AG Patentabteilung, (Postfachadresse), D-73446 Oberkochen (DE)
Priority Data:
PCT/EP2005/054070 18.08.2005 EP
Title (DE) OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) OPTICAL SYSTEM, NAMELY OBJECTIVE OR ILLUMINATION DEVICE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM
(FR) SYSTEME OPTIQUE, EN PARTICULIER OBJECTIF OU DISPOSITIF D'ECLAIRAGE D'UNE INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem diffraktiven optischen Element, das zur Erzielung einer Blazewirkung eine Mehrzahl von Blazestrukturen aufweist, welche jeweils mehrere für eine Blazewirkung sorgende Einzel- Substrukturen umfassen, die gemäß einer vorbestimmten Periode in Erstreckungsrichtung der jeweiligen Blazestruktur nebeneinander angeordnet sind, wobei diese Einzel- Substrukturen in Draufsicht jeweils die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckungsrichtung gerichtete Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung variiert, aber immer kleiner als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, und deren maximale Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung größer ist als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung, wobei das Füllverhältnis der Einzel-Substrukturen in Erstreckungsrichtung zur Periode in Abhängigkeit von der Position senkrecht zur Erstreckungsrichtung so gewählt ist, dass für einen von zwei zueinander orthogonalen Polarisationszuständen der elektromagnetischen Strahlung die Blazewirkung optimiert ist.
(EN)The invention relates to an illumination device or a projection objective of a microlithographic projection exposure system, comprising at least one diffractive optical element provided with a plurality of blaze structures for achieving a blaze effect, said blaze structures respectively comprising a plurality of individual substructures for ensuring a blaze effect, said sub-structures being adjacently arranged according to a pre-determined period in the direction of extension of the respective blaze structure. From above, the individual sub-structures respectively have the form of a closed geometrical surface, the dimension thereof oriented parallel to the direction of extension varying perpendicularly to the direction of extension, but always being smaller than the wavelength of the electromagnetic radiation, and the maximum dimension thereof perpendicular to the direction of extension being larger than the wavelength of the electromagnetic radiation. The filling ratio of the individual sub-structures in the direction of extension in relation to the period according to the position perpendicular to the direction of extension is selected such that the blaze effect is optimised for one of two mutually orthogonal polarisation states of the electromagnetic radiation.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'éclairage ou un objectif de projection d'une installation d'exposition par projection microlithographique, comportant au moins un élément optique diffractant qui, pour permettre l'obtention d'un effet de blaze, présente une pluralité de structures blazées comprenant chacune plusieurs sous-structures individuelles assurant un effet de blaze, juxtaposées selon une période prédéterminée dans la direction d'extension de la structure blazée respective. Ces sous-structures individuelles possèdent, vu de dessus, la forme d'une surface géométrique fermée dont la dimension orientée parallèlement à la direction d'extension varie perpendiculairement à cette dernière mais reste toujours inférieure à la longueur d'onde du rayonnement électromagnétique, et dont la dimension maximale perpendiculairement à la direction d'extension est supérieure à la longueur d'onde du rayonnement électromagnétique. Le rapport de remplissage des sous-structures individuelles dans la direction d'extension par rapport à la période en fonction de la position perpendiculaire à la direction d'extension est sélectionné de sorte que l'effet de blaze soit optimisé pour l'un de deux états de polarisation mutuellement orthogonaux du rayonnement électromagnétique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)