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1. (WO2007017473) IMAGING SYSTEM, IN PARTICULAR PROJECTION LENS OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE UNIT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/017473    International Application No.:    PCT/EP2006/065070
Publication Date: 15.02.2007 International Filing Date: 04.08.2006
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 1/00 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
SCHUSTER, Karl-Heinz [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: SCHUSTER, Karl-Heinz; (DE)
Agent: FRANK, Hartmut; Reichspräsidentenstr. 21-25, 45470 Mülheim (DE)
Priority Data:
60/706,903 10.08.2005 US
Title (DE) ABBILDUNGSSYSTEM, INSBESONDERE PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) IMAGING SYSTEM, IN PARTICULAR PROJECTION LENS OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE UNIT
(FR) SYSTEME DE REPRODUCTION, EN PARTICULIER OBJECTIF DE PROJECTION D'UNE INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Abbildungssystem, insbesondere ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektions- belichtungsanlage, mit wenigstens einem optischen Element (100), welches ein kubisches Kristallmaterial aufweist, das bei einer vorgegebenen Arbeitswellenlänge eine Brechzahl n größer als 1.6 hat, und mit einer bildseitigen numerischen Apertur NA, welche kleiner als die Brechzahl n ist, wobei die Differenz (n-NA) zwischen der Brechzahl n und der numerischen Apertur NA des Abbildungssystems maximal 0.2 beträgt.
(EN)The invention relates to an imaging system, in particular a projection lens of a microlithographic projection exposure unit. Said lens comprises at least one optical element (100) containing a cubic crystalline material with a refractive index n that is greater than 1.6 at a predetermined working wavelength and comprises a numerical aperture NA on the image side that is less than the refractive index n. According to the invention, the maximum difference (n-NA) between the refractive index n and the numerical aperture NA of the imaging system is 0.2.
(FR)L'invention concerne un système de reproduction, en particulier un objectif de projection d'une installation d'exposition par projection microlithographique, qui comporte au moins un élément optique (100), pourvu d'un cristal cubique présentant un indice de réfraction n supérieur à 1,6 à une longueur d'onde de travail prédéfinie, et une ouverture numérique (NA) côté image inférieure à l'indice de réfraction n, la différence (n-NA) entre l'indice de réfraction n et l'ouverture numérique NA du système de reproduction étant au maximum égale à 0,2.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)