WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2007015532) MATERIAL TO BE MEASURED FOR STRESS ANALYSIS, COATING LIQUID FOR FORMING COATING FILM LAYER ON THE MATERIAL TO BE MEASURED, AND STRESS-INDUCED LUMINESCENT STRUCTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/015532    International Application No.:    PCT/JP2006/315335
Publication Date: 08.02.2007 International Filing Date: 02.08.2006
IPC:
G01L 1/00 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 201/00 (2006.01)
Applicants: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008921 (JP) (For All Designated States Except US).
XU, Chao-Nan; (For US Only).
IMAI, Yusuke; (For US Only).
TERASAKI, Nao; (For US Only).
ADACHI, Yoshio; (For US Only).
YAMADA, Hiroshi; (For US Only).
NISHIKUBO, Keiko; (For US Only)
Inventors: XU, Chao-Nan; .
IMAI, Yusuke; .
TERASAKI, Nao; .
ADACHI, Yoshio; .
YAMADA, Hiroshi; .
NISHIKUBO, Keiko;
Agent: HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300041 (JP)
Priority Data:
2005-226022 03.08.2005 JP
Title (EN) MATERIAL TO BE MEASURED FOR STRESS ANALYSIS, COATING LIQUID FOR FORMING COATING FILM LAYER ON THE MATERIAL TO BE MEASURED, AND STRESS-INDUCED LUMINESCENT STRUCTURE
(FR) MATÉRIAU À MESURER POUR ANALYSE DES CONTRAINTES, LIQUIDE D’ENDUCTION POUR CONSTITUER UNE COUCHE DE FILM D’ENDUCTION SUR LE MATÉRIAU À MESURER ET STRUCTURE LUMINESCENTE INDUITE PAR CONTRAINTE
(JA) 応力解析用の被測定物、該被測定物に塗膜層を形成するための塗布液及び応力発光構造体
Abstract: front page image
(EN)On the surface of a material to be measured for stress analysis which has a stress-induced luminescent material layer formed thereon, a distortion energy is transmitted from a base material of a stress-induced luminescent material to the stress-induced luminescent material with high efficiency. The material to be measured for stress analysis has, formed on its surface, a coating film layer, which emits light upon exposure to a change in distortion energy. The coating film layer is formed of a synthetic resin layer containing stress-induced luminescent particles, and the modulus of elasticity of a base material is not less than 1.0 GPa. The thickness of the coating film layer is preferably 1 μm to 500 μm.
(FR)A la surface d’un matériau à mesurer pour analyse des contraintes présentant une couche de matériau luminescent induit par contrainte formée sur celui-ci, une énergie de distorsion est transmise à partir d’un matériau de base d’un matériau luminescent induit par contrainte au matériau luminescent induit par contrainte avec une grande efficacité. Le matériau à mesurer pour analyse des contraintes possède, formée à sa surface, une couche de film d’enduction, qui émet de la lumière en cas d’exposition à un changement d’énergie de distorsion. La couche de film d’enduction est constituée d’une couche de résine synthétique contenant des particules luminescentes induites par contrainte, et le module d’élasticité d’un matériau de base est supérieur ou égal à 1,0 GPa. L’épaisseur de la couche de film d’enduction est de préférence comprise entre 1 µm et 500 µm.
(JA) 応力発光物質の層を形成した応力解析用の被測定物の表面において、応力発光物質の基材から効率良く応力発光物質に歪みエネルギーが伝達できることを目的とする。応力解析用の被測定物であって、その表面に歪エネルギーの変化を受けて発光する塗膜層が形成されており、塗膜層が応力発光粒子を含有する合成樹脂層により形成され基材の弾性率が1.0GPa以上である。塗膜層の厚さが1μm~500μmであることが好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)